類金剛石膜的制備、性能與應(yīng)用

前言
第一章 類金剛石膜概述
1.1 類金剛石膜的制備方法
1.2 類金剛石膜的性能
1.3 類金剛石膜的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第二章 場(chǎng)發(fā)射研究進(jìn)展
2.1 場(chǎng)發(fā)射的理論
2.2 場(chǎng)發(fā)射平板顯示陰極材料的發(fā)展?fàn)顩r
2.3 冷陰極場(chǎng)發(fā)射顯示器件的研究進(jìn)展
參考文獻(xiàn)
第三章 激光濺射制膜技術(shù)研究進(jìn)展
3.1 PLD基本原理及物理過程
3.2 PLD技術(shù)制備薄膜材料的優(yōu)、缺點(diǎn)
3.3 PLD技術(shù)在功能薄膜研究中的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第四章 激光濺射制備類金剛石膜生長(zhǎng)理論與實(shí)驗(yàn)設(shè)備
4.1 激光濺射制備類金剛石膜生長(zhǎng)理論及文獻(xiàn)綜述
4.2 激光濺射制備類金剛石膜實(shí)驗(yàn)設(shè)備及工藝
4.3 類金剛石膜性能測(cè)試手段
參考文獻(xiàn)
第五章 高功率高重復(fù)頻率脈沖準(zhǔn)分子激光制備類金剛石膜研究
5.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)對(duì)DLC膜制備的影響
5.2 最佳工藝條件下沉積的類金剛石膜的性能
5.3 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第六章 類金剛石膜冷陰極場(chǎng)發(fā)射特性研究
6.1 類金剛石膜場(chǎng)發(fā)射性能
6.2 氫對(duì)類金剛石膜場(chǎng)發(fā)射性能的影響
6.3 氮摻雜對(duì)類金剛石膜的結(jié)構(gòu)、性能及場(chǎng)發(fā)射性能的影響
6.4 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第七章 類金剛石膜冷陰極場(chǎng)發(fā)射平板顯示器件設(shè)計(jì)與制作
7.1 簡(jiǎn)單二極管結(jié)構(gòu)FED器件
7.2 矩陣選址二極管結(jié)構(gòu)
7.3 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第八章 總結(jié)與展望