OpenGL程序設計指南（第2版國外經典教材計算機科學與技術）

第1章 基礎知識
  1.1 OpenGL API
  1.2 看待OpenGL的三個角度
  1.3 OpenGL中有什么
  1.4 OpenGL的版本和擴展
  1.5 語言
  1.6 編程約定
  1.7 編譯
  1.8 資源
  1.9 本書面向的讀者
  1.10 各章簡介
第2章 OpenGL中的二維編程
  2.1 一個簡單程序
  2.2 GLUT
  2.3 事件循環(huán)和回調函數(shù)
  2.4 描繪一個矩形
  2.5 更改GLUT默認值
  2.6 OpenGL中的顏色
  2.7 GLUT和OpenGL在坐標系統(tǒng)上的差異
  2.8 二維觀視
  2.9 視見區(qū)
  2.10 坐標系統(tǒng)和轉換
  2.11 simple.c版本2
  2.12 圖元和屬性
  2.13 多邊形類型
  2.14 顏色插補
  2.15 文本
  2.16 查詢和錯誤
  2.17 保存狀態(tài)
  2.18 編程練習
第3章 交互與動畫
  3.1 重畫回調函數(shù)
  3.2 空閑回調函數(shù)
  3.3 一個旋轉的正方形
  3.4 X2緩存處理
  3.5 使用鍵盤
  3.6 使用鼠標回調函數(shù)
  3.7 鼠標的運動
  3.8 菜單
  3.9 空回調函數(shù)
  3.10 子窗口和多窗口
  3.11 例子:single double.c
  3.12 顯示列表
  3.13 拾取模式和選擇模式
  3.14 編程練習
第4章 基本的三維程序設計
  4.1 照相機和對象
  4.2 OpenGL中的平行投影
  4.3 觀視一個立方體
  4.4 定位照相機
  4.5 生成對象
  4.6 消除隱藏表面
  4.7 GLU和GLUT對象
  4.8 透視投影
  4.9 編程練習
第5章 變換
  5.1 保留線條的變換
  5.2 同構坐標
  5.3 模型-觀視變換和投影變換
  5.4 平移
  5.5 旋轉
  5.6 縮放
  5.7 一個旋轉的立方體
  5.8 直接設置矩陣
  5.9 變換與坐標系統(tǒng)
  5.10 用變換來建模
  5.11 編程練習
第6章 光照和材質
  6.1 光照-材質交互
  6.2 Phong模型
  6.3 OpenGL的光照
  6.4 定義光源
  6.5 定義材質
  6.6 陰影化旋轉立方體
  6.7 控制陰影計算
  6.8 光滑陰影
  6.9 法向量的處理
  6.10 透明性
  6.11 編程練習
第7章 圖像
  7.1 像素和位圖
  7.2 位圖
  7.3 繪制模型
  7.4 讀寫像素
  7.5 選擇緩存
  7.6 像素存儲模型
  7.7 顯示PPM圖像
  7.8 使用亮度
  7.9 像素映射
  7.10 像素的縮放
  7.11 OpenGL中的圖像處理
  7.12 編程練習
第8章 紋理映射
  8.1 什么是紋理映射
  8.2 構造紋理映射
  8.3 紋理坐標
  8.4 紋理參數(shù)
  8.5 帶紋理的旋轉立方體
  8.6 對表面應用紋理
  8.7 邊界與改變大小
  8.8 Mipmap
  8.9 自動紋理坐標生成
  8.10 紋理對象
  8.11 圖像處理的紋理映射
  8.12 編程練習
第9章 曲線與曲面
  9.1 參量曲線
  9.2 參量曲面
  9.3 貝塞爾曲線與曲面
  9.4 一維OpenGL求值器
  9.5 維求值器
  9.6 一個交互式示例
  9.7 其他類型的曲線
  9.8 Utah茶壺
  9.9 法向量與陰影化
  9.10 紋理曲面
  9.11 編程練習
第10章 綜合應用與高級技術
  10.1 一個演示程序
  10.2 OpenGL的其他特性
  10.3 緩存
  10.4 編寫可移植、效率高、魯棒性強的代碼
第11章 展望未來
  11.1 版本及其擴展
  11.2 OpenGL擴展
  11.3 突破實時圖像
  11.4 可編程管道
  11.5 陰影語言