電子槍與離子束技術(shù)

定　價(jià)：￥29.00

作　者：	張以忱編著
出版社：	冶金工業(yè)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	電子其他

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ISBN：	9787502433895	出版時(shí)間：	2004-01-01	包裝：	簡(jiǎn)裝本
開(kāi)本：	20cm	頁(yè)數(shù)：	284	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　內(nèi)容簡(jiǎn)介電子槍與離子束技術(shù)近年來(lái)在科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)中得到了廣泛的應(yīng)用，尤其在冶金、宇航、電子工業(yè)中材料表面改性等領(lǐng)域的新工藝中更為多見(jiàn)。本書(shū)介紹了電子槍與離子束的理論基礎(chǔ)，電子與等離子產(chǎn)生的機(jī)理，通過(guò)電場(chǎng)、磁場(chǎng)或復(fù)合場(chǎng)把產(chǎn)生的荷電粒子束進(jìn)行聚焦、偏轉(zhuǎn)、掃描等控制其運(yùn)動(dòng)規(guī)律的各種裝置及其設(shè)計(jì)計(jì)算。內(nèi)容分8章：電子束光學(xué)，電子束技術(shù)基礎(chǔ)，離子束物理基礎(chǔ)，強(qiáng)流軸向電子槍，偏轉(zhuǎn)電子槍設(shè)計(jì)原理，空心陰極（HCD）電子槍，離子束應(yīng)用技術(shù)，S槍離子濺射源的設(shè)計(jì)。作者基于多年的教學(xué)和科研實(shí)踐，對(duì)內(nèi)容進(jìn)行了仔細(xì)的選取，力求理論與實(shí)際應(yīng)用相結(jié)合，將與電子槍和離子束技術(shù)有關(guān)的基礎(chǔ)理論與設(shè)計(jì)方法有機(jī)地結(jié)合在一起，較詳細(xì)地論述了各種電子槍和離子槍的設(shè)計(jì)原理、設(shè)計(jì)計(jì)算方法及其應(yīng)用；在內(nèi)容上做到既具有一定的理論深度和系統(tǒng)性，又對(duì)相關(guān)設(shè)備的設(shè)計(jì)應(yīng)用具有實(shí)踐上的指導(dǎo)作用，為讀者提供一個(gè)精練清晰、系統(tǒng)實(shí)用的內(nèi)容體系。本書(shū)適合于真空技術(shù)、真空冶金、材料工程、熱處理、焊接等部門從事設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、研究和設(shè)備應(yīng)用與維護(hù)的技術(shù)人員參考使用，也可供高等學(xué)校相關(guān)專業(yè)用做教材。

作者簡(jiǎn)介

暫缺《電子槍與離子束技術(shù)》作者簡(jiǎn)介

圖書(shū)目錄

1 電子光學(xué)
1.1 電子光學(xué)特征
1.2 軸對(duì)稱電場(chǎng)中的電子運(yùn)動(dòng)
1.3 電透鏡
1.4 磁透鏡
1.5 實(shí)用磁透鏡
1.6 靜電透鏡與磁透鏡的比較
2 電子束技術(shù)基礎(chǔ)
2.1 電子束的產(chǎn)生及性質(zhì)
2.2 電子槍概述
2.3 強(qiáng)流電子槍設(shè)計(jì)基礎(chǔ)
2.4 電子束蒸發(fā)沉積
3 離子束物理基礎(chǔ)
3.1 等離子體基本性質(zhì)
3.2 等離子體的分類
3.3 等離子體的獲得
3.4 低溫等離子體中粒子運(yùn)動(dòng)和效電基本過(guò)程
3.5 離子束與材料表面的相互作用
4 強(qiáng)流軸向電子槍
4.1 概述
4.2 軸向電子槍基本結(jié)構(gòu)和工作原理
4.3 軸向電子束發(fā)生系統(tǒng)設(shè)計(jì)計(jì)算
4.4 電子光路系統(tǒng)設(shè)計(jì)計(jì)算
4.5 槍室真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)
4.6 電子槍的調(diào)試
4.7 強(qiáng)流軸向槍電源設(shè)計(jì)
4.8 電子槍x射線的形成與屏蔽防護(hù)
5 偏轉(zhuǎn)電子槍
5.1 電子束流磁偏轉(zhuǎn)理論基礎(chǔ)
5.2 偏轉(zhuǎn)電子槍工作原理與結(jié)構(gòu)
5.3 偏轉(zhuǎn)槍（e型槍）參數(shù)設(shè)計(jì)
5.4 偏轉(zhuǎn)電子槍束流設(shè)計(jì)計(jì)算
5.5 壓差孔的設(shè)計(jì)
5.6 電子槍頭的安裝與調(diào)試
5.7 偏轉(zhuǎn)電子槍電源
6 空心陰極放電（hcd）電子槍
6.1 空心陰極放電效應(yīng)
6.2 空心陰極電子槍工作原理
6.3 空心陰極電子槍設(shè)計(jì)參數(shù)
6.4 hcd槍中等離子體的離化率與電流形成
6.5 偏轉(zhuǎn)電磁場(chǎng)的設(shè)計(jì)計(jì)算
6.6 空心陰極與輔助陽(yáng)極的設(shè)計(jì)
6.7 離子鍍中等離子源的束流偏轉(zhuǎn)
7 離子束技術(shù)
7.1 離子源
7.2 離子注入技術(shù)
7.3 離子束沉積技術(shù)
8 s槍離子濺射源的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)
8.1 s槍的基本原理與結(jié)構(gòu)
8.2 s槍濺射源結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
8.3 s槍磁控濺射的工作特性
8.4 基本參數(shù)的設(shè)計(jì)計(jì)算
參考文獻(xiàn)