紅外光學(xué)材料

第一章 紅外光學(xué)材料基礎(chǔ)
1.1 引言
1.2 大氣窗口
1.3 黑體輻射??普朗克輻射定律
1.4 波動方程和光學(xué)常數(shù)
1.5 反射和折射
1.6 薄膜光學(xué)
1.7 折射指數(shù)和色散
1.8 在各向異性介質(zhì)中光的傳播??雙折射
1.9 透明介質(zhì)中光的散射
1.10 透明介質(zhì)熱輻射的發(fā)射率
1.11 斷裂強度和斷裂韌性
1.12 斷裂強度的統(tǒng)計分析
1.13 抗熱沖擊品質(zhì)因子
參考文獻
第二章 紅外光學(xué)材料的光學(xué)性質(zhì)
2.1 引言
2.2 反射
2.3 透過率和吸收系數(shù)及與溫度的關(guān)系
2.4 折射指數(shù)、色散和折射指數(shù)與溫度的關(guān)系
2.5 散射
2.6 發(fā)射率
2.7 紅外光學(xué)材料的微波透射性質(zhì)
參考文獻
第三章 紅外光學(xué)材料的力學(xué)與熱學(xué)性質(zhì)
3.1 引言
3.2 紅外光學(xué)材料的力學(xué)和熱學(xué)性質(zhì)
3.3 紅外光學(xué)材料的硬度及其影響因素
3.4 約外光學(xué)材料斷裂強度及其影響因素
3.5 藍(lán)寶石單晶的高溫強度
3.6 紅外光學(xué)材料的斷裂韌性
3.7 紅外光學(xué)材料抗熱沖擊品質(zhì)因子
3.8 因體粒子對紅外光學(xué)元件表面的腐蝕
3.9 液體粒子對紅外光學(xué)元件表面的腐蝕
參考文獻
第四章 紅外光學(xué)材料的制備方法和工藝
4.1 引言
4.2 熱壓工藝
4.3 燒結(jié)、熱壓燒結(jié)和熱等靜壓法
4.4 納米和亞微米氧化物透明陶瓷的制備
4.5 熔體定向凝固法
4.6 導(dǎo)模法（EFG）
4.7 直拉生長法（Czochralski法）
參考文獻
第五章 化學(xué)汽像沉積制備紅外光學(xué)材料
5.1 引言
5.2 化學(xué)汽相沉積基礎(chǔ)
5.3 CVD ZnS和CVD ZnSe
5.4 CVDβ-SiC
5.5 CVD GaP
5.6 CVD Si3N4
參考文獻
第六章 金剛石光學(xué)材料
第七章 增透膜和保護膜
參考文獻