光學(xué)投影曝光微納加工技術(shù)

前言
第一章 光學(xué)投影光刻基礎(chǔ)
第一節(jié) 微納光刻技術(shù)概述
一、微納加工光刻技術(shù)
二、微納加工光刻技術(shù)分類
第二節(jié) 光學(xué)投影光刻
一、光學(xué)投影光刻簡介
二、光學(xué)投影光刻技術(shù)的發(fā)展
三、光學(xué)投影光刻機(jī)分系統(tǒng)及關(guān)鍵單元技術(shù)
四、光學(xué)投影光刻在微納加工技術(shù)中的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第二章 投影曝光光學(xué)系統(tǒng)
第一節(jié) 投影光刻物鏡
一、光學(xué)基礎(chǔ)
二、投影光刻物鏡的光學(xué)材料
三、投影光刻物鏡的光學(xué)設(shè)計(jì)與評(píng)價(jià)
四、投影光刻物鏡的機(jī)械結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與制造
第二節(jié) 均勻照明系統(tǒng)
一、概述
二、紫外光照明系統(tǒng)
三、準(zhǔn)分子激光深紫外照明系統(tǒng)
第三節(jié) 調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)
一、概述
二、檢焦技術(shù)
三、整場調(diào)平逐場調(diào)焦
四、逐場和實(shí)時(shí)調(diào)平調(diào)焦
參考文獻(xiàn)
第三章 掩模硅片對(duì)準(zhǔn)
第一節(jié) 概述
一、對(duì)準(zhǔn)工作原理
二、對(duì)準(zhǔn)技術(shù)和方法
第二節(jié) 離軸對(duì)準(zhǔn)技術(shù)
一、CCD視頻圖像離軸對(duì)準(zhǔn)的工作原理
二、CCD視頻圖像離軸對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記、對(duì)準(zhǔn)算法和精度分析
第三節(jié) 同軸對(duì)準(zhǔn)技術(shù)
一、TIL衍射光柵同軸對(duì)準(zhǔn)光學(xué)原理
二、TIL對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記
三、TIL對(duì)準(zhǔn)控制系統(tǒng)及數(shù)字信號(hào)處理
第四節(jié) 同軸對(duì)準(zhǔn)與離軸對(duì)準(zhǔn)相結(jié)合的對(duì)準(zhǔn)技術(shù)
一、深紫外光刻對(duì)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的要求
二、深紫外光刻的對(duì)準(zhǔn)過程
三、深紫外光刻對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記
四、雙激光多級(jí)衍射光柵離軸對(duì)準(zhǔn)(ATHENA)光學(xué)原理
五、ATHENA離軸對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)算法及工藝適應(yīng)性
六、深紫外光刻同軸對(duì)準(zhǔn)原理
第五節(jié) 硅片傳輸與硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)
一、硅片傳輸系統(tǒng)
二、硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)
第六節(jié) 掩模傳輸與掩模預(yù)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)
一、掩模傳輸系統(tǒng)
二、掩模預(yù)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)
參考文獻(xiàn)
第四章 精密定位工件臺(tái)
第一節(jié) 精密定位工件臺(tái)概述
一、精密定位工件臺(tái)的功能
二、精密定位工件臺(tái)的分類
三、精密定位工件臺(tái)的發(fā)展概況
第二節(jié) 工件臺(tái)系統(tǒng)精度分析
一、測(cè)量系統(tǒng)誤差
二、機(jī)械系統(tǒng)誤差
三、控制系統(tǒng)誤差
四、環(huán)境誤差
第三節(jié) 工件臺(tái)的技術(shù)指標(biāo)與檢測(cè)方法
一、靜態(tài)性能方面
二、動(dòng)態(tài)性能方面
三、工件臺(tái)的主要性能指標(biāo)
第四節(jié) 精密硅片工件臺(tái)的機(jī)械結(jié)構(gòu)
一、光刻機(jī)工件臺(tái)的母軌種類
二、光刻機(jī)工件臺(tái)的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與驅(qū)動(dòng)電機(jī)
三、二軸粗動(dòng)臺(tái)與三軸微動(dòng)臺(tái)的結(jié)構(gòu)及特點(diǎn)
四、掃描式硅片工件臺(tái)和掩模工件臺(tái)
五、氣浮工件臺(tái)的氣足設(shè)計(jì)
第五節(jié) 雙頻激光干涉測(cè)量系統(tǒng)
一、雙頻激光干涉測(cè)量系統(tǒng)
二、測(cè)量系統(tǒng)布局和坐標(biāo)計(jì)算方法
三、雙頻激光干涉測(cè)量系統(tǒng)的裝配調(diào)整
四、雙頻激光干涉測(cè)量系統(tǒng)誤差分析
第六節(jié) 工件臺(tái)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)
一、三維精密工件臺(tái)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)
二、三維氣浮工件臺(tái)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)
參考文獻(xiàn)
第五章 分辨力增強(qiáng)技術(shù)
第一節(jié) 波前工程原理
第二節(jié) 離軸照明技術(shù)
一、OAI提高投影光刻成像系統(tǒng)分辨力和增大焦深的基本原理
二、四極照明
三、環(huán)形照明
四、二元光柵照明
第三節(jié) 相移掩模技術(shù)
一、PSM提高光刻分辨力的原理-
二、LevensonPSM
三、邊緣PSM
四、輔助PSM
五、無鉻PSM
六、衰減PSM
第四節(jié) 光學(xué)鄰近效應(yīng)校正技術(shù)
一、鄰近效應(yīng)現(xiàn)象與校正原理
二、線條偏置法
三、添加輔助線條法
四、灰階掩模法
第五節(jié) 光瞳濾波技術(shù)
一、光瞳濾波(PF)提高光刻分辨力的原理
二、振幅光瞳濾波
三、相移光瞳濾波
第六節(jié) 偏振成像控制技術(shù)
一、偏振成像控制提高光刻分辨力的原理
二、偏振成像控制方法
參考文獻(xiàn)
第六章 投影光刻整機(jī)集成
第一節(jié) 整機(jī)的主要性能
一、光刻動(dòng)態(tài)分辨力與線條質(zhì)量
二、套刻坐標(biāo)系及套刻精度
三、投影光刻機(jī)的生產(chǎn)效率
四、整機(jī)的可靠性
第二節(jié) 投影光刻機(jī)整機(jī)電控系統(tǒng)
一、控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
二、電源系統(tǒng)
第三節(jié) 投影光刻機(jī)整機(jī)軟件設(shè)計(jì)
一、投影光刻機(jī)的工作流程
二、整機(jī)測(cè)試軟件
三、整機(jī)軟件框架
第四節(jié) 環(huán)境控制系統(tǒng)
一、對(duì)投影光刻機(jī)內(nèi)部環(huán)境控制系統(tǒng)的要求及其組成
二、投影光刻機(jī)內(nèi)部環(huán)境控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)
三、投影光刻機(jī)對(duì)外部環(huán)境的要求
第五節(jié) 整機(jī)框架設(shè)計(jì)
一、投影光刻機(jī)的振動(dòng)源
二、框架材料與線膨脹控制
三、整機(jī)框架結(jié)構(gòu)實(shí)例
參考文獻(xiàn)
第七章 投影光刻技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)及納米光刻新技術(shù)的前景展望
第一節(jié) 光學(xué)投影光刻技術(shù)的潛力
第二節(jié) 光學(xué)投影光刻技術(shù)的最新進(jìn)展
第三節(jié) 納米光刻新技術(shù)的前景展望
一、納米壓印技術(shù)
二、表面等離子體光學(xué)光刻
三、原子光刻
四、結(jié)語
參考文獻(xiàn)
附錄：國際主要投影光刻設(shè)備廠商機(jī)器型號(hào)