X射線熒光光譜儀

第一章　緒論
　第一節(jié)　X射線熒光光譜的產(chǎn)生及其特點(diǎn)
　第二節(jié)　X射線熒光分析技術(shù)的新應(yīng)用
一、在生物、生命及環(huán)境領(lǐng)域中的應(yīng)用
　　二、在材料及毒性物品監(jiān)測(cè)中的應(yīng)用
　第三節(jié)　X射線熒光光譜儀研制進(jìn)展
　參考文獻(xiàn)
第二章　基本原理
　第一節(jié)　特征X射線的產(chǎn)生與特性
　　一、特征X射線
　　二、特征譜線系
　　三、譜線相對(duì)強(qiáng)度
　　四、熒光產(chǎn)額
　第二節(jié)　X射線吸收
　　一、X射線衰減
　　二、吸收邊
　　三、吸收躍變
　　四、質(zhì)量衰減系數(shù)的計(jì)算
　第三節(jié)　X射線散射
　　一、相干散射
　　二、非相干散射
　第四節(jié)　X射線熒光光譜分析原理
　第五節(jié)　X射線衍射分析
　參考文獻(xiàn)
第三章　激發(fā)源
　第一節(jié)　常規(guī)X射線光管
　　一、光管結(jié)構(gòu)與工作原理
　　二、連續(xù)X射線譜
　　三、特征X射線譜
　　四、光管特性
　第二節(jié)　液體金屬陽(yáng)極X射線光管
　第三節(jié)　冷X射線光管
　第四節(jié)　單色與選擇激發(fā)
　　一、濾光片
　　二、二次靶
　第五節(jié)　同位素源
　第六節(jié)　同步輻射光源與粒子激發(fā)
　第七節(jié)　聚束毛細(xì)管X射線透鏡
　第八節(jié)　X射線激光光源
　參考文獻(xiàn)
第四章　探測(cè)器
　第一節(jié)　波長(zhǎng)色散探測(cè)器
　　一、流氣式氣體正比計(jì)數(shù)器
　　二、NaI閃爍計(jì)數(shù)器
　　三、波長(zhǎng)色散探測(cè)器的逃逸峰
　第二節(jié)　能量探測(cè)器
　　一、能量探測(cè)原理
　　二、能量探測(cè)器組成與特性
　　三、能量探測(cè)器的逃逸峰
　第三節(jié)　新型能量探測(cè)器
　　一、Ge探測(cè)器
　　二、SiPIN探測(cè)器
　　三、Si漂移探測(cè)器(SDD)
　　四、電耦合陣列探測(cè)器(CDD)
　　五、超導(dǎo)躍變微熱量感應(yīng)器(TES)
　　六、超導(dǎo)隧道結(jié)探測(cè)器(STJ)
　　七、CdZnTe探測(cè)器
　　八、鉆石探測(cè)器(CVDD)
　　九、無定形硅探測(cè)器(ASi)
　第四節(jié)　各種探測(cè)器性能比較
　　一、波長(zhǎng)色散與能量色散能力
　　二、探測(cè)器分辨率比較
　　三、探測(cè)器的選用
　參考文獻(xiàn)
第五章　X熒光光譜儀
　第一節(jié)　波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀
　　一、X射線光管、探測(cè)器與光譜儀結(jié)構(gòu)
　　二、分光晶體及分辨率
　　三、脈沖放大器和脈高分析器
　第二節(jié)　能量色散X射線熒光光譜儀
　第三節(jié)　同位素源激發(fā)X射線熒光光譜儀
　第四節(jié)　偏振激發(fā)X射線熒光光譜儀
　第五節(jié)　全反射X射線熒光光譜儀
　第六節(jié)　同步輻射X射線熒光光譜儀
　第七節(jié)　聚束毛細(xì)管透鏡微束XRF光譜儀
　參考文獻(xiàn)
第六章　定性與定量分析方法
　第一節(jié)　定性分析
　第二節(jié)　定量分析
　　一、獲取譜峰凈強(qiáng)度
　　二、干擾校正
　　三、濃度計(jì)算
　第三節(jié)　數(shù)學(xué)校正法
　第四節(jié)　實(shí)驗(yàn)校正方法
　　一、標(biāo)準(zhǔn)化
　　二、內(nèi)標(biāo)法
　　三、標(biāo)準(zhǔn)添加法
　　四、散射線內(nèi)標(biāo)法
　第五節(jié)　實(shí)驗(yàn)校正實(shí)例——散射線校正方法
　　一、散射效應(yīng)與利用
　　二、濾光片對(duì)Compton峰和分析譜線的影響
　　三、準(zhǔn)直器直徑對(duì)譜線的影響
　　四、Compton峰位隨濾光片材料的原子序數(shù)增加而產(chǎn)生漂移
　參考文獻(xiàn)
第七章 基本校正
第一節(jié) 基本參數(shù)法
一、理論熒光強(qiáng)度
二、相關(guān)基本參數(shù)計(jì)算
三、基本參數(shù)法
第二節(jié) 理論校正系數(shù)
一、基本影響系數(shù)
二、理論校正系數(shù)
三、系數(shù)變換
參考文獻(xiàn)
第八章 分析誤差和統(tǒng)計(jì)不確定
第一節(jié) 分析誤差和分布函數(shù)
一、分析誤差
二、分布函數(shù)
第二節(jié) 計(jì)數(shù)統(tǒng)計(jì)學(xué)
第三節(jié) 靈敏度、檢出限及XRF中的誤差來源
一、靈敏度和檢出限
二、XRF中的誤差來源
第四節(jié) 不確定度及不確定度計(jì)算
一、測(cè)量不確定度
二、統(tǒng)計(jì)不確定度
三、誤差傳遞與不確定度
四、不確定度計(jì)算式
五、平均值的不確定度計(jì)算
六、統(tǒng)計(jì)波動(dòng)
參考文獻(xiàn)
第九章 XRF中的化學(xué)計(jì)量學(xué)方法和應(yīng)用
第一節(jié) 曲線擬合與遺傳算法
一、遺傳算法
二、遺傳算法在XRF中的應(yīng)用
三、不同擬合方法的比較
第二節(jié) 基體校正與神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)
一、神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的發(fā)展與學(xué)習(xí)規(guī)則
二、神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型——誤差反傳學(xué)習(xí)算法
三、神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)及相關(guān)化學(xué)計(jì)量學(xué)方法在XRF中的應(yīng)用
第三節(jié) 模式識(shí)別
一、模式識(shí)別方法與特性
二、支持向量機(jī)
三、模式識(shí)別方法在XRF中的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第十章 樣品制備
第一節(jié) 制樣技術(shù)分類
第二節(jié) 分析制樣中的一般問題
一、樣品的表面狀態(tài)
二、不均勻性效應(yīng)
三、樣品粒度與制樣壓力
四、X射線分析深度與樣品厚度
五、樣品的光化學(xué)分解
六、其他問題
七、試樣裝入
八、污染控制
九、測(cè)定時(shí)須小心的樣品
第三節(jié) 金屬樣品的制備
一、取樣
二、金屬樣品的制備方法
第四節(jié) 粉末樣品的制備
一、粉末壓片法
二、玻璃熔片法
三、松散粉末法
第五節(jié) 液體樣品
一、液體法
二、點(diǎn)滴法
三、富集法
四、固化法
第六節(jié) 其他類型樣品的制備
一、塑料樣品的制備方法
二、放射性樣品
第七節(jié) 微少量、微小樣品的制備
第八節(jié) 低原子序數(shù)元素分析的特殊問題
第九節(jié) 樣品制備實(shí)例
一、全巖分析
二、石灰、白云石石灰和鐵石灰
三、石灰石、白云石和菱鎂礦
四、天然石膏及石膏副產(chǎn)品
五、玻璃砂
六、水泥
七、氧化鋁
八、電解液
九、煤衍生物——一瀝青
十、樹葉和植物
參考文獻(xiàn)
第十一章 X射線熒光光譜儀的特性與參數(shù)選擇
第一節(jié) 波長(zhǎng)色散型X射線熒光光譜儀的特性與技術(shù)進(jìn)展
第二節(jié) X射線高壓發(fā)生器
第三節(jié) X射線光管特性與選擇使用
第四節(jié) 濾光片、狹縫和準(zhǔn)直器
第五節(jié) 晶體適用范圍及其選擇
第六節(jié) 2θ聯(lián)動(dòng)裝置
第七節(jié) 測(cè)角儀
第八節(jié) 探測(cè)器特性與使用
一、閃爍計(jì)數(shù)器
二、氣體正比計(jì)數(shù)器
三、探測(cè)器的選擇標(biāo)準(zhǔn)
第九節(jié) 脈沖高度分析器
第十節(jié) 實(shí)驗(yàn)參數(shù)的選擇
一、儀器參數(shù)的選擇
二、光學(xué)參數(shù)的選擇
三、探測(cè)器與測(cè)量參數(shù)的選擇
第十一節(jié) 能量色散XRF光譜儀的特性和注意事項(xiàng)
第十二節(jié) 全反射X射線熒光光譜儀特性與設(shè)計(jì)要點(diǎn)
參考文獻(xiàn)
第十二章 儀器檢定、校正與維修
第一節(jié) 儀器檢定
一、實(shí)驗(yàn)室條件
二、檢驗(yàn)項(xiàng)目及測(cè)量方法
三、技術(shù)指標(biāo)
第二節(jié) 脈沖高度分析器的調(diào)整及儀器漂移的標(biāo)正
一、脈沖高度分析器的調(diào)整
二、儀器漂移的校正
第三節(jié) 日常維護(hù)
一、真空泵油位檢查
二、P10氣體的更換
三、高壓漏氣檢測(cè)
四、密閉冷卻水循環(huán)系統(tǒng)的檢測(cè)
五、檢查初級(jí)水過濾器
六、X射線光管的老化
七、日常檢查項(xiàng)目
第四節(jié) 常見故障及維護(hù)
一、機(jī)械問題
二、X射線高壓發(fā)生器
三、真空度不好
四、探測(cè)器的故障
五、樣品室灰塵的清掃
第五節(jié) 儀器選型常用標(biāo)準(zhǔn)與判據(jù)
一、硬件
二、軟件
參考文獻(xiàn)