固體薄膜材料與制備技術(shù)

定　價(jià)：￥30.00

作　者：	寧兆元、江美福、辛煜、葉超
出版社：	科學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	合成樹脂與塑料工業(yè)

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ISBN：	9787030212061	出版時(shí)間：	2008-01-01	包裝：	平裝
開本：	16	頁數(shù)：	131	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡介

　　《固體薄膜材料與制備技術(shù)》較全面地介紹了有關(guān)薄膜材料制備技術(shù)的基礎(chǔ)知識(shí)，總結(jié)了近年來薄膜材料制備領(lǐng)域的新進(jìn)展，并融入了作者多年來在從事薄膜材料研究中所取得的成果。全書共10章，第l章主要介紹了薄膜材料的基本概念、特征，并扼要介紹了薄膜材料的物性和結(jié)構(gòu)的分析方法。第2章和第3章講述的是有關(guān)薄膜制備技術(shù)中涉及的基礎(chǔ)知識(shí)，包括真空技術(shù)和等離子體技術(shù)等。第4章和第5章是《固體薄膜材料與制備技術(shù)》的重點(diǎn)，著重討論了制備薄膜材料的物理氣相沉積技術(shù)和化學(xué)氣相沉積技術(shù)的基本原理和方法，包括蒸發(fā)、濺射、離子束、脈沖激光和等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)，以及分子束外延和液相法生長技術(shù)等。第6章討論了薄膜材料的厚度和沉積速率的檢測方法。第7～10章則有選擇地介紹了當(dāng)前國際上研究的幾種熱點(diǎn)薄膜材料的制備和檢測技術(shù)，如超低和超高介電常數(shù)薄膜、發(fā)光薄膜、超硬薄膜、巨磁電阻薄膜等，其目的是使讀者進(jìn)一步了解薄膜材料的廣泛應(yīng)用及其發(fā)展方向?！豆腆w薄膜材料與制備技術(shù)》可供從事薄膜材料研究的科研工作者參考，也可以作為物理學(xué)、材料科學(xué)與工程、電子科學(xué)與技術(shù)等專業(yè)高年級(jí)本科生或研究生的參考讀物。

作者簡介

暫缺《固體薄膜材料與制備技術(shù)》作者簡介

圖書目錄

前言
第1章薄膜的特征
　1.1 薄膜的定義
　1.2 表面效應(yīng)
　1.3 薄膜的結(jié)構(gòu)和缺陷
第2章真空技術(shù)基礎(chǔ)
　2.1 真空的基本概念
　2.2 氣體的動(dòng)力學(xué)描述
　2.3 氣體的流動(dòng)與抽氣
　2.4 真空的獲得
　2.5 真空的測量
第3章等離子體技術(shù)基礎(chǔ)
　3.1 等離子體的基本概念
　3.2 等離子體的分類
　3.3 低溫等離子體的產(chǎn)生
第4章薄膜的物理氣相沉積
　4.1 蒸發(fā)沉積
　4.2 濺射沉積
　4.3 離子束沉積
　4.4 脈沖激光沉積
第5章化學(xué)氣相沉積
　5.1 熱化學(xué)氣相沉積
　5.2 等離子體化學(xué)氣相沉積
　5.3 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積
　5.4 其他化學(xué)氣相沉積
第6章膜厚和沉積速率的測量
　6.1 光學(xué)法
　6.2 天平法
　6.3 電學(xué)方法
　6.4 表面粗糙度儀法
第7章低介電常數(shù)薄膜材料
　7.1 低介電常數(shù)材料的研究背景
　7.2 碳基低介電常數(shù)薄膜
　7.3 硅基低介電常數(shù)薄膜
　7.4 SiCOH多孔（超）低介電常數(shù)材料的制備與性能
第8章氧化鋅薄膜材料
　8.1 氧化鋅薄膜的特性和用途
　8.2 氧化鋅薄膜的制備和光致發(fā)光譜
第9章鈦酸鍶鋇鐵電多層薄膜
　9.1 鐵電多層薄膜的研究意義
　9.2 BaTiO3/Ba0.6Sr0.4 TiO3多層薄膜的介電增強(qiáng)效應(yīng)
　9.3 界面對(duì)BaTiO3/SrTio3多層膜的介電學(xué)性質(zhì)的影響
　9.4 多層膜的鐵電性能
第10章硅基顆粒復(fù)合發(fā)光薄膜
　10.1 硅基發(fā)光材料研究的意義及歷史
　10.2 硅基顆粒復(fù)合發(fā)光薄膜的制備
　10.3 Si-SiO2和Ge-SiO2薄膜的光致發(fā)光和電致發(fā)光特性
參考文獻(xiàn)