Eclipse Modeling Framework 2.0中文版（第2版）

定　價(jià)：￥69.00

作　者：	（美）斯泰因貝格等著，戰(zhàn)曉蘇等譯
出版社：	清華大學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	軟件工程/開(kāi)發(fā)項(xiàng)目管理

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ISBN：	9787302226321	出版時(shí)間：	2010-06-01	包裝：	平裝
開(kāi)本：	16開(kāi)	頁(yè)數(shù)：	509	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　Eclipse Modeling Framework允許開(kāi)發(fā)人員基于非常簡(jiǎn)單的模型快速構(gòu)建強(qiáng)大的應(yīng)用程序?！禘clipse Modeling Framework 2．0中文版（第2版）》對(duì)上一版做了全面修訂，為指導(dǎo)您使用EMF解決實(shí)際問(wèn)題、加快開(kāi)發(fā)進(jìn)度和提高軟件質(zhì)量提供了專家級(jí)指南、精辟分析和豐富示例?！禘clipse Modeling Framework 2.0中文版（第2版）》在上一版基礎(chǔ)上新增逾40%的內(nèi)容，并從頭到尾進(jìn)行了全面更新，力求使內(nèi)容更貼近實(shí)際，能給讀者帶來(lái)更大幫助。書(shū)中闡述EMF建模的核心概念和技術(shù)，分析EMF最重要的架構(gòu)類和生成器模式，引導(dǎo)讀者選擇最合理的設(shè)計(jì)方案，并介紹功能強(qiáng)大的架構(gòu)定制和編程技術(shù)。書(shū)中主要內(nèi)容包括：·使用Java、UML、XML模式和Ecore定義模型·新增：使用擴(kuò)展的Ecore建模技術(shù)將XML與UML和Java完美結(jié)合起來(lái)·生成高質(zhì)量的代碼來(lái)實(shí)現(xiàn)模型和編輯器·理解和定制生成的代碼·完整描述@model Javadoc標(biāo)記、生成器模型屬性以及資源保存和加載選項(xiàng)·新增：利用最新EMF功能，包括擴(kuò)展的元數(shù)據(jù)、特性映射、EStore、跨引用適配器、復(fù)制器和內(nèi)容類型等·新增：編排專門(mén)章節(jié)，介紹有關(guān)更改記錄、驗(yàn)證以及在獨(dú)立應(yīng)用程序和Eclipse RCP應(yīng)用程序中使用EMF的內(nèi)容·新增：使用Ecore建立泛型模型以及生成Java 5代碼

作者簡(jiǎn)介

　　斯泰因貝格（Dave Steinberg），是IBM Software Group的軟件開(kāi)發(fā)人員，一直在IBM公司從事Eclipse和建模技術(shù)工作。自EMF項(xiàng)日于2002年啟動(dòng)以來(lái)，Dave Steinberg始終不渝地貢獻(xiàn)著自己的力量。Frank Budinsky，是IBM Software Group的高級(jí)架構(gòu)師，也是EMF以及Eclipse的EMF項(xiàng)目的創(chuàng)始人之一。他日前擔(dān)任OASIS SDO規(guī)范技術(shù)委員會(huì)副主席兼IBM首席SDO架構(gòu)師。Marcelo Patemostro，是IBM Software Group的軟件架構(gòu)師和工程師。他是EMF參與者之一，并。直積極參與其他多個(gè)Eclipse項(xiàng)日。加盟IBM之前，Marcelo使用Rational工具及過(guò)程管理、設(shè)計(jì)和實(shí)現(xiàn)過(guò)多個(gè)項(xiàng)日。Ed Merks，是EMF項(xiàng)日負(fù)責(zé)人，也是Eclipse頂級(jí)建模項(xiàng)目領(lǐng)導(dǎo)閉隊(duì)的成員，并兼任合伙企業(yè)itemis AG的軟件顧問(wèn)。Ed是計(jì)算機(jī)科學(xué)博士，多年從事語(yǔ)占、架構(gòu)和應(yīng)用程序開(kāi)發(fā)環(huán)境的設(shè)計(jì)和實(shí)現(xiàn)，在這些領(lǐng)域擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)。

圖書(shū)目錄

第1部分 EMF概述
第1章 Eclpse
1.1 項(xiàng)目
1.1.1 Eclipse項(xiàng)目
1.1.2 建模項(xiàng)目
1.1.3 工具項(xiàng)目
1.1.4 技術(shù)項(xiàng)目
1.1.5 其他項(xiàng)目.
1.2 Eclipse平臺(tái)
1.2.1 插件體系結(jié)構(gòu)
1.2.2 工作區(qū)資源
1.2.3 平臺(tái)用戶界面
1.2.4 富客戶端平臺(tái)
1.3 更多信息
第2章 EMF介紹
2.1 統(tǒng)一Java、XML和UML
2.2 建模與編程
2.3 定義模型
2.3.1 Ecore模型（元模型）
2.3.2 創(chuàng)建和編輯模型
2.3.3 XMI串行化
2.3.4 Java批注
2.3.5 Ecore概述
2.4 生成代碼
2.4.1 生成的模型類
2.4.2 其他生成的內(nèi)容
2.4.3 重新生成和合并
2.4.4 生成器模型
2.5 運(yùn)行庫(kù)架構(gòu)
2.5.1 通知和適配器
2.5.2 對(duì)象持久化
2.5.3 反射EObject API
2.5.4 動(dòng)態(tài)EMF
2.5.5 數(shù)據(jù)集成基礎(chǔ)
2.6 EMF和建模標(biāo)準(zhǔn)
2.6.1 統(tǒng)一建模語(yǔ)言（LYML）
2.6.2 元對(duì)象工具
2.6.3 XML元數(shù)據(jù)互換
2.6.4 模型驅(qū)動(dòng)的體系結(jié)構(gòu)
第3章使用EMF.Edit編輯模型
3.1 顯示和編輯EMF模型
3.1.1 Eclipse UI基礎(chǔ)知識(shí)
3.1.2 EMF.Edit支持
3.2 項(xiàng)提供程序
3.2.1 內(nèi)容和標(biāo)簽項(xiàng)提供程序
3.2.2 項(xiàng)屬性源
3.2.3命令工廠
3.2.4 更改通知
3.2.5 項(xiàng)提供程序?qū)崿F(xiàn)類
3.3 命令架構(gòu)
3.3.1 公共命令架構(gòu)
3.3.2 EME Edit命令
3.3.3 Editing Domain
3.4 生成EMF Edit代碼
3.4.1 編輯生成
3.4.2 編輯器生成
3.4.3 重新生成EMF7Edit插件
第4章使用EMF——簡(jiǎn)單概述
4.1 示例模型：入門(mén)級(jí)采購(gòu)訂單模型
4.2 創(chuàng)建EMF模型和項(xiàng)目
4.2.1 從批注.1 ava創(chuàng)建EMF模型
4.2.2 從RationalRose類模型創(chuàng)建EMF項(xiàng)目
4.2 3 從XMLschema創(chuàng)建EMF項(xiàng)目
4.2.4 為Ecore模型創(chuàng)建生成器模型
4.2.5 其他格式
4.3 生成代碼
4.4 運(yùn)行應(yīng)用程序
4.5 繼續(xù)開(kāi)發(fā)
第Ⅱ部分定義EMF模型
第5章 Ecore建模概念
5.1 Ecore模型用法
5.2 Ecore內(nèi)核
5.3 結(jié)構(gòu)特性
5.3.1 屬性
5.3.2 引用
5.4 行為特性
5.5 分類器
5.5.1 類
5.5.2 數(shù)據(jù)類型
5.6 包和工廠
5.7 批注
5.8 模型數(shù)據(jù)類型
5.9 Ecore和用戶模型
第6章 UML
6.1 UML包
6.2 分類器的UML規(guī)范
6.2.1 類
6.2.2 枚舉類型
6.2.3 數(shù)據(jù)類型
6.3 屬性的URL規(guī)范
6.3.1 單值屬性
6.3.2 多值屬性
6.3.3 包含默認(rèn)值的屬性
6.4 引用的UML規(guī)范
6.4.1 雙向非包容引用
6.4.2 包容引用
6.4.3 映射引用
6.5 操作的UML規(guī)范
6.6 文檔
6.7 Rational Rose中的Ecore屬性
6.7.1 包屬性
6.7.2 分類器屬性
6.7.3 結(jié)構(gòu)特性屬性
6.7.4 操作屬性
6.7.5 模型元素屬性
第7章 Java源代碼
7.1 類的Java規(guī)范
7.1.1 屬性
7.1.2 引用
7.1.3 屬性和引用的簡(jiǎn)潔符號(hào)
7.1.4 操作
7.2 枚舉類型的Java規(guī)范
7.3 用于包的Java規(guī)范
7.4 映射的Java規(guī)范
7.4.1 包中映射條目類的顯式定義
7.4.2 映射類型引用、操作和參數(shù)的定義
7.5 批注的Java規(guī)范
第8章擴(kuò)展的Ecore建模
8.1 特性映射
8.1.1 多重特性和跨特性訂單
8.1.2 Feature Map接口
8.2 使用特性映射建模
8.2.1 UMI
8.2.2 批注Java
8.2.3 XML Schema1
第9章 XML Schema
9.1 模式
9.1.1 沒(méi)有目標(biāo)名稱空間的模式
9.1.2 包含目標(biāo)名稱空間的模式
9.1.3全局元素或者屬性聲明
9.1.4 元素或者屬性形式默認(rèn)值
9.1.5 EMT擴(kuò)展
9.2 簡(jiǎn)單類型定義
9.2.1 限制
9.2.2 包含枚舉方面的限制
9.2.3 列表類型
9.2.4 聯(lián)合類型
9.2.5 匿名類型
9.2.6 EMF擴(kuò)展
9.3 復(fù)雜類型定義
9.3.1 擴(kuò)展和限制
9.3.2 簡(jiǎn)單內(nèi)容
9.3.3 匿名類型
9.3.4 抽象類型
9.3.5 混合類型
9.3.6 EMF擴(kuò)展
9.3.7 操作
9.4 屬性聲明
9.4.1 ID屬性
9.4.2 ID引用或URI屬性
9.4.3 必需的屬性
9.4.4 默認(rèn)值
9.4.5 限定屬性
9.4.6 全局屬性
9.4.7 屬性引用
9.4.8 EMF擴(kuò)展
9.5 元素聲明
9.5.1 Any Type元素
9.5.2 ID元素
9.5.3 ID引用或URI屬性
9.5.4 Nillable元素
9.5.5 默認(rèn)值
9.5.6 限定元素
9.5.7 全局元素
9.5.8 元素引用
9.5.9 替換組
9.5.10 EMF擴(kuò)展
9.6 模型組
9.6.1 重復(fù)模型組
9.6.2 重復(fù)模型組引用
9.7 通配符
9.7.1 元素通配符
9.7.2 屬性通配符
9.7.3 EMF擴(kuò)展
9.8 批注
9.8.1 文檔
9.8.2 Appinfo
9.8.3 忽略的批注
9.8.4 非模式屬性
9.9 預(yù)定義的模式簡(jiǎn)單類型
9.10 EMF擴(kuò)展
第Ⅲ部分使用EMF生成器
第10章 EMF生成器模式
10.1 模型類
10.1.1 接口和實(shí)現(xiàn)類
10.1.2 存取器方法
10.1.3 抽象類
10.1.4 接口
10.2 屬性
10.2.1 簡(jiǎn)單屬性
10.2.2 數(shù)據(jù)類型屬性
10.2.3 枚舉類型屬性
10.2.4 多值屬性
10.2.5 默認(rèn)值
10.2.6 Volatile屬性
10.2.7 Non-Changeable屬性
10.2.8 Unsettable屬性
10.3 引用
10.3.1 單向引用
10.3.2 雙向引用
10.3.3 多重多值引用
10.3.4 Non-Proxy Resolving引用
10.3.5 包容引用
10.3.6 Volatile引用
10.3.7 Non－Changeable引用
10.3.8 Unsettable引用
10.3.9 映射引用
10.4 特性映射
10.5 操作
10.6 類繼承
10.6.1 單一繼承
10.6.2 多重繼承
10.6.3 接口繼承和實(shí)現(xiàn)
10.7 反射方法
10.7.1 特性ID
10.7.2 反射存取器
10.7.3 反向握手方法
10.7.4 特性ID轉(zhuǎn)換方法
10.8 工廠和包
10.9 轉(zhuǎn)換類和適配器工廠
10.10 可選的生成器模式
10.10.1 性能優(yōu)化
10.10.2 隱藏EMFisms
10.11 定制生成的代碼
第11章 EMF.Edit生成器模式
11.1 項(xiàng)提供程序
11.1.1 內(nèi)容和標(biāo)簽提供程序
11.1.2 項(xiàng)屬性源
11.1.3 命令工廠
11.1.4 更改通知
11.1.5 對(duì)象創(chuàng)建
11.2 項(xiàng)提供程序適配器工廠
11.3編輯器
11.4 操作欄參與者
11.5 向?qū)?br />11.6 插件
第12章運(yùn)行生成器
12.1 EMF代碼生成
12.2 生成器用戶界面
12.3 生成器模型屬性
12.3.1 模型對(duì)象屬性
12.3.2 包屬性
12.3.3 類屬性
12.3.4 特性屬性
12.4 命令行生成器工具
12.4.1 無(wú)頭調(diào)用
12.4.2 Rose2GenModel
12.4.3 XSD2GcaModel
12.4.4 Ecore2GenModel
12.4.5 生成器
12.5 生成器Ant任務(wù)
12.5.1 emf.Rose2Java
12.5.2 emf.XSD2Java
12.5.3 emf.Ecore2Java
12.6 模板格式
12.6.1 示例模板
12.6.2 模板的可擴(kuò)展性
第13章示例——實(shí)現(xiàn)模型和編輯器
13.1 開(kāi)始入手
13.2 生成模型
13.3 實(shí)現(xiàn)易失特性
13.4 實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)類型
13.5 運(yùn)行ExtendedP02編輯器
13.6 限制引用目標(biāo)
13.7 將模型劃分為多個(gè)包
13.7.1 解析包的依賴關(guān)系
13.7.2 回顧限制引用目標(biāo)
13.8 同時(shí)編輯多個(gè)資源
13.8.1 跨文檔、非包容引用
13.8.2 跨文檔包容引用
第Ⅳ部分使用EMF編程
第14章探索元數(shù)據(jù)
14.1 包
14.1.1 一般性訪問(wèn)包元數(shù)據(jù)
14.I.2 定位包
14.2 反射
14.2.1 創(chuàng)建對(duì)象
14.2.2 詢問(wèn)和修改對(duì)象
14.3 動(dòng)態(tài)EMF
14.4 擴(kuò)展的元數(shù)據(jù)
第15章持久化
15.1 持久化架構(gòu)概述
15.2 EME持久化API
……
第16章客戶端編程工具箱
第17章更改模型
第18章驗(yàn)證架構(gòu)
第19章 EMF.Edit編程
第20章 Eclipse IDE之外的應(yīng)用領(lǐng)域
第21章 EMF 2.3和2.4
附錄A UML符號(hào)
附錄B 示例模型概述
附錄C 參考文獻(xiàn)