微小世界里的新天地：神奇的薄膜

定　價：￥32.00

作　者：	麻蒔立男,譚毅，史蹟譯
出版社：	科學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	固體物理學(xué)

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ISBN：	9787030319357	出版時間：	2011-08-01	包裝：	平裝
開本：	32開	頁數(shù)：	175	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡介

　　在我們生活的世界中，各種各樣形形色色的事物和現(xiàn)象，其中都必定包含著“科學(xué)”的成分。在這些成分中，有些是你所熟知的，有些是你未知的，有些是你還一知半解的。面對未知的世界，好奇的你是不是有很多疑惑、不解和期待呢？“形形色色的科學(xué)”趣味科普叢書，把我們身邊方方面面的科學(xué)知識活靈活現(xiàn)、生動有趣地展示給你，讓你在暢快閱讀中收獲這些鮮活的科學(xué)知識！我們最新式的筆記本電腦和手機(jī)在變得越來越小的同時，性能卻得到了幾倍幾十倍的提升。正是因?yàn)楸∧み@種尖端的納米技術(shù)，我們的生活中才有了大屏幕超薄液晶電視、超大容量存儲媒介、越來越輕巧功能卻越來越強(qiáng)大的各種電子產(chǎn)品。就讓《微小世界里的新天地：神奇的薄膜》為你生動地講解一下這項(xiàng)支撐現(xiàn)代高科技社會的基礎(chǔ)技術(shù)吧?！段⑿∈澜缋锏男绿斓兀荷衿娴谋∧ぁ愤m合青少年讀者、科學(xué)愛好者以及大眾讀者閱讀。

作者簡介

　　麻蒔立男，1934年生于日本愛知縣，1957年靜岡大學(xué)工學(xué)部電子工學(xué)專業(yè)畢業(yè)，同年加入日本電氣株式會社，1967年被調(diào)任至日電Valian（現(xiàn)佳能ANELVA株式會社），1990年至2010年任東京理科大學(xué)教授和返聘教授、日本真空協(xié)會個人理事、工學(xué)博士。主要著作有《話說真空》、《薄膜制作基礎(chǔ)》、《超微細(xì)加工基礎(chǔ)》、《簡明電磁學(xué)》、《超微細(xì)加工人門》、《簡明薄膜讀本》（日刊工業(yè)出版社）等。譚毅，1993年3月獲東京工業(yè)大學(xué)金屬工學(xué)博士學(xué)位；1997年10月在日本超高溫材料研究所任新能源產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合開發(fā)機(jī)構(gòu)研究員；2001年5月任美國加州大學(xué)洛杉磯分校材料科學(xué)與工程系研究員；2009年9月受聘于大連理工大學(xué)，任材料學(xué)院教授、能源研究院副院長至今?，F(xiàn)從事冶金法提純多晶硅材料、薄膜材料、高溫材料等新能源材料的研究。史蹟，1984年畢業(yè)于大連理工大學(xué)金屬材料專業(yè)；1993年赴日本留學(xué)；1997年獲東京工業(yè)大學(xué)金屬工學(xué)博士學(xué)位，后任日本國立電氣通信大學(xué)量子物質(zhì)工學(xué)助教；2004年任東京工業(yè)大學(xué)材料工學(xué)副教授至今。現(xiàn)從事金屬物理、功能材料、結(jié)構(gòu)分析等材料科學(xué)的研究。

圖書目錄

第1章幸福生活從美麗與微觀開始
　001展現(xiàn)繽紛色彩的顏料用微小粉末描繪美麗世界002
　002復(fù)制美麗——相片彩色相片與數(shù)碼相機(jī)004
　003薄膜技術(shù)使機(jī)器人不斷進(jìn)化利用薄膜材料與計算機(jī)
　進(jìn)行精密制備006
　004創(chuàng)造五種感官視覺、聽覺、嗅覺、味覺與觸覺的創(chuàng)造008
　005制造人工智能010
　006我們身邊的電子產(chǎn)品都在使用薄膜012
　007利用不分解的壓延技術(shù),可以薄到什么程度014
　008制造薄膜與制作精細(xì)圖案016
　COLUMN真空的含義018
第2章制備薄膜的重要環(huán)境條件——真空
　009真空——壓強(qiáng)低于大氣壓的空間狀態(tài)020
　010真空的單位與壓強(qiáng)的單位：帕斯卡(Pa)022
　011抽出和吸附——真空泵的分類024
　012真空的分析和測量真空計026
　013真空裝置的制造方法028
　COLUMN質(zhì)量瞬移030
第3章薄膜的制備
　014薄膜的形成——先氣化,再固化沉積032
　015四種氣化源034
　016單層生長與形核長大薄膜的生長①036
　017薄膜內(nèi)部缺陷薄膜的生長②038
　018僅有薄膜還不夠薄膜與基板的結(jié)合040
　019目標(biāo)：單晶薄膜042
　COLUMN出身和教育同樣重要044viv
第4章薄膜特有的性質(zhì)
　020薄膜的密度和厚度會隨時間減小046
　021薄膜電阻的變化比體材料大048
　022熱穩(wěn)定性降低通過時效處理加以克服05
　COLUMN薄膜和基板的連接052
第5章增強(qiáng)基板與薄膜結(jié)合的技術(shù)
　023制膜的基礎(chǔ)：平整的基板054
　024前期處理：使基板表面完全裸露056
　025前期處理的最后工序：干燥058
　026制備附著強(qiáng)度更強(qiáng)的薄膜060
　027改變氣化源、增加附著強(qiáng)度062
　028薄膜與基板的相合性更為重要064
　029著陸點(diǎn)：險峻的山地066
　030得到希望的薄膜組成068
　031制造用于大面積集成電路的非晶薄膜070
　032電遷移斷線及其解決方法072
　COLUMN太陽之子——等離子體074
第6章等離子體在薄膜制備中的重要性
　033等離子體的神奇之處及其應(yīng)用076
　034通過放電獲得等離子體078
　035低氣壓(良好真空)下的磁控放電080
　036產(chǎn)生薄膜用等離子體的五種方法082
　037薄膜制備的難題——塵埃084
　COLUMN望遠(yuǎn)鏡和照相機(jī)視場變亮的奧秘086
第7章從古代沿用至今的蒸鍍法
　038蒸發(fā)源088
　039加工等厚膜的方法090
　040離子鍍的使用092
　041進(jìn)一步發(fā)揮離子的作用094
　042防止蒸鍍材料與薄膜間的成分變化激光沉積法096
　043制作透明導(dǎo)電的薄膜透明導(dǎo)電薄膜的蒸鍍方法098
　COLUMN活學(xué)活用100
第8章大面積氣化源、適于批量生產(chǎn)的濺射法
　044濺射率是由離子能量和薄膜材料的種類決定的102
　045濺射產(chǎn)生的原子遵循余弦法則且速度非?？?04
　046濺射的主要方式106
　047以低電壓、定壓(高真空)為目標(biāo)的磁控濺射108
　048支撐半導(dǎo)體IC高集成度發(fā)展的鋁合金濺射110
　049利用反應(yīng)濺射制作高性能電阻膜112
　050用濺射法制作氧化物高溫超導(dǎo)膜114
　051低電壓下制造透明導(dǎo)電膜(氧化物)ITO116
　052薄膜加工的過渡——從平面成膜到微孔成膜118
　053利用離子進(jìn)行超微細(xì)孔的填埋120
　054向高真空、無氬氣濺射的過渡122
　COLUMN神奇的過程——從氣體到薄膜124
第9章由氣體制作薄膜的氣相沉積法
　055氣體向固體的轉(zhuǎn)變：薄膜的氣相沉積126
　056很多的CVD方法已被實(shí)用化128
　057CVD法制備IC中至關(guān)重要的硅系薄膜130
　058高清彩色電視用的硅薄膜132
　059高誘電率薄膜和低誘電率薄膜的制作134
　060用氣相沉積法制備金屬導(dǎo)體薄膜136
　061表面改性法制備氧化薄膜、氮化薄膜138
　COLUMN從水(液體)中提取薄膜(固體)140
第10章在液體中制作鍍膜
　062鍍膜技術(shù)的發(fā)展142
　063液相鍍膜和真空薄膜中的核生長144
　064精密鍍膜在電氣領(lǐng)域的應(yīng)用146
　COLUMN用世界上最小的刀進(jìn)行切削加工148vii
第11章將薄膜加工成電路、晶體管等的蝕刻技術(shù)
　065蝕刻法制備圖樣：在正確的位置加工正確的形狀150
　066用氣體離子進(jìn)行蝕刻152
　067最關(guān)鍵的一步——等離子體的制備154
　068反應(yīng)氣體是重要的156
　069決定蝕刻的條件158
　070利用極細(xì)離子束進(jìn)行故障修理160
　071利用CMP進(jìn)行平坦化處理162
　072無CMP的平坦化技術(shù)164
　COLUMN向偉大的夢想前進(jìn)！166
第12章薄膜發(fā)展的無限可能性
　073操控原子，制造未來儀器168
　074薄膜——帶動世界通信網(wǎng)絡(luò)發(fā)展170
　075用微動同步器挽救生命172
　076生物計算機(jī)的使用174參考文獻(xiàn)177