薄膜技術(shù)與薄膜材料

第1章　真空技術(shù)基礎(chǔ)
　1.1真空的基本知識
　1.2真空的表征
　1.3氣體分子與表面的相互作用
　習題
第2章　真空泵與真空規(guī)
　2.1真空泵
　2.2真空測量儀器——總壓強計
　2.3真空測量儀器——分壓強計
　習題
第3章　真空裝置的實際問題
　3.1排氣的基礎(chǔ)知識
　3.2材料的放氣
　3.3排氣時間的估算
　3.4實用的排氣系統(tǒng)
　3.5檢漏
　3.6大氣溫度與濕度對裝置的影響
　3.7烘烤用的內(nèi)部加熱器
　3.8化學活性氣體的排氣
　習題
第4章　氣體放電和低溫等離子體
　4.1帶電粒子在電磁場中的運動
　4.2氣體原子的電離和激發(fā)
　4.3氣體放電發(fā)展過程
　4.4低溫等離子體概述
　4.5輝光放電
　4.6弧光放電
　4.7高頻放電
　4.8低壓力、高密度等離子體放電
　習題
第5章　薄膜生長與薄膜結(jié)構(gòu)
　5.1薄膜生長概述
　5.2吸附、表面擴散與凝結(jié)
　5.3薄膜的形核與生長
　5.4連續(xù)薄膜的形成
　5.5薄膜的生長過程與薄膜結(jié)構(gòu)
　5.6非晶態(tài)薄膜
　5.7薄膜的基本性質(zhì)
　5.8薄膜的粘附力和內(nèi)應力
　5.9電遷移
　習題
第6章　真空蒸鍍
　6.1概述
　6.2鍍料的蒸發(fā)
　6.3蒸發(fā)源
　6.4蒸發(fā)源的蒸氣發(fā)射特性與基板配置
　6.5蒸鍍裝置及操作
　6.7化合物膜的蒸鍍
　6.8脈沖激光熔射(pla)
　6.9分子束外延技術(shù)
　習題
第7章　離子鍍和離子束沉積
　7.1離子鍍原理及方式
　7.2幾種典型的離子鍍方式
　7.3離子束沉積
　7.4離子束混合
　習題
第8章　濺射鍍膜
　8.1離子濺射
　8.2濺射鍍膜方式
　8.3濺射鍍膜的實例
　習題
第9章　化學氣相沉積(cvd)
　9.1化學氣相沉積(cvd)概述
　9.2熱cvd
　9.3等離子體cvd(pcvd)
　9.4光cvd(photocvd)
　9.5有機金屬cvd(mocvd)
　9.6金屬cvd
　9.7半球形晶粒多晶si-cvd(hsg-cvd)
　9.8鐵電體的cvd
　9.9低介電常數(shù)薄膜的cvd
　習題
第10章　干法刻蝕
　10.1干法刻蝕與濕法刻蝕
　10.2等離子體刻蝕——激發(fā)反應氣體刻蝕
　10.3反應離子刻蝕(rie)
　10.4反應離子束刻蝕(ribe)
　10.5氣體離化團束(gcib)加工技術(shù)
　10.6微機械加工
　10.7干法刻蝕用離子源的開發(fā)
　習題
第11章　平坦化技術(shù)
　11.1平坦化技術(shù)的必要性
　11.2干坦化技術(shù)概要
　11.3不發(fā)生凹凸的薄膜生長
　11.4沉積同時進行加工防止凹凸發(fā)生的薄膜生長
　11.5薄膜生長后經(jīng)再加工實現(xiàn)平坦化
　11.6埋人技術(shù)實例
　11.7化學機械研磨(cmp)技術(shù)
　11.8氣體離化團束(gcib)加工平坦化
　11.9大馬士革法(damascene)布線及平坦化
　11.10平坦化技術(shù)與光刻制版術(shù)
　11.111c多層布線已進展到第四代
　習題
第12章　表面改性及超硬膜
　12.1表面改性
　12.2超硬膜用于切削刀具
　習題
第13章　能量及信號變換用薄膜與器件
　13.1能量變換薄膜與器件
　13.2傳感器
　13.3金剛石薄膜的應用
　習題
第14章　半導體器件、記錄和存儲用薄膜技術(shù)與薄膜材料
　14.1半導體器件
　14.2記錄與存儲
　習題
第15章　平板顯示器中的薄膜技術(shù)與薄膜材料
　15.1平板顯示器
　15.2液晶顯示器
　15.3等離子體平板顯示器
　15.4有機電致發(fā)光顯示器(oled)
　習題
第16章　太陽電池中的薄膜技術(shù)與薄膜材料
　16.1太陽電池的原理和薄膜太陽電池的優(yōu)勢
　16.2太陽電池和光伏發(fā)電的最新進展
　16.3硅系薄膜太陽電池
　16.4cdte太陽電池
　16.5cigs太陽電池
　16.6超高效率多串結(jié)ⅲ—v族化合物半導體太陽電池
　16.7有機薄膜型太陽電池
　16.8色素增感(染料敏化)太陽電池
　習題
第17章　白光led固體照明與薄膜技術(shù)
　17.1半導體固體發(fā)光器件的基礎(chǔ)——發(fā)光過程
　17.2發(fā)光二極管和藍光led
　17.3白光led固體照明器件
　17.4激光二極管
　習題
參考文獻
作者書系