無(wú)機(jī)合成化學(xué)（第二版）

第1章 緒論
1.1 無(wú)機(jī)合成化學(xué)的內(nèi)容
1.2 無(wú)機(jī)合成化學(xué)在經(jīng)濟(jì)建設(shè)中的作用
1.3 無(wú)機(jī)合成化學(xué)與高新技術(shù)的關(guān)系
1.4 進(jìn)行無(wú)機(jī)材料合成的思想方法
1.5 無(wú)機(jī)合成化學(xué)的熱點(diǎn)領(lǐng)域
1.6 無(wú)機(jī)合成化學(xué)課程的要求
第2章 氣體和溶劑
2.1 氣體和溶劑在合成中的作用
2.2 氣體
2.2.1 氣體的制備
2.2.2 氣體的凈化
2.2.3 氣體的安全使用和儲(chǔ)存
2.2.4 無(wú)水無(wú)氧實(shí)驗(yàn)操作
2.2.5 氣體流量的測(cè)定和控制
2.3 溶劑
2.3.1 溶劑的主要類(lèi)型
2.3.2 溶劑的選擇
2.3.3 溶劑化效應(yīng)
2.3.4 溶劑的提純
2.3.5 非水溶劑在無(wú)機(jī)合成中的應(yīng)用
思考題
第3章 經(jīng)典合成方法
3.1 化學(xué)氣相沉積法
3.1.1 熱分解反應(yīng)
3.1.2 化學(xué)合成反應(yīng)
3.1.3 化學(xué)輸運(yùn)反應(yīng)
3.2 高溫合成
3.2.1 高溫的獲得和測(cè)量
3.2.2 高溫合成反應(yīng)的類(lèi)型
3.2.3 高溫固相反應(yīng)
3.2.4 高溫還原反應(yīng)
3.3 低溫合成和分離
3.3.1 低溫的獲得、測(cè)量和控制
3.3.2 低溫合成
3.3.3 低溫分離
3.4 高壓合成
3.4.1 高壓的產(chǎn)生和測(cè)量
3.4.2 高壓下的無(wú)機(jī)合成
3.4.3 人造金剛石的高壓合成
3.4.4 稀土復(fù)合氧化物的高壓合成
3.5 低壓合成
3.5.1 一般概念
3.5.2 真空的產(chǎn)生
3.5.3 真空測(cè)量
3.5.4 實(shí)驗(yàn)室中常用的真空裝置和操作單元
3.5.5 低壓合成
3.6 熱熔法
3.6.1 電弧法
3.6.2 熔渣法（skullmeng）
思考題
第4章 軟化學(xué)和綠色合成方法
4.1 概述
4.1.1 軟化學(xué)
4.1.2 綠色化學(xué)
4.1.3 綠色化學(xué)和軟化學(xué)的關(guān)系
4.2 先驅(qū)物法
4.2.1 概述
思考題
第5章 特殊合成方法
5.1 電化學(xué)合成
5.1.1 電化學(xué)的一些基本概念
5.1.2 含高價(jià)態(tài)元素化合物的電氧化合成
5.1.3 含中間價(jià)態(tài)和特殊低價(jià)態(tài)元素化合物的電還原合成
5.1.4 水溶液中的電沉積
5.1.5 熔鹽電解
5.1.6 非水溶劑中無(wú)機(jī)化合物的電解合成
5.2 光化學(xué)合成
5.2.1 概述
5.2.2 光化學(xué)反應(yīng)的基本原理
5.2.3 配位化合物的光化學(xué)合成
5.2.4 光化學(xué)氣相沉積制備半導(dǎo)體薄膜
5.2.5 激光誘導(dǎo)液相表面化學(xué)反應(yīng)
5.3 微波合成
5.3.1 概述
5.3.2 微波燃燒合成和微波燒結(jié)
5.3.3 微波的水熱合成
5.3.4 微波輻射法在無(wú)機(jī)固相合成中的應(yīng)用
5.4 自蔓延高溫合成
5.4.1 概述
5.4.2 燃燒反應(yīng)和燃燒三要素
5.4.3 燃燒反應(yīng)溫度的估算
5.4.4 sHs在無(wú)機(jī)合成中的應(yīng)用
5.5 生物合成法
5.5.1 一氧化氮（NO）的合成
5.5.2 標(biāo)記化合物的合成
思考題
第6章 極端條件下的合成化學(xué)
6.1 超高溫超高壓合成
6.2 等離子體化學(xué)合成
6.2.1 等離子體的一般概念
6.2.2 熱等離子體和冷等離子體的獲得
6.2.3 等離子體在合成化學(xué)中的應(yīng)用
6.2.4 等離子體化學(xué)氣相沉積
6.3 濺射合成法
6.3.1 濺射合成的特點(diǎn)和裝置
6.3.2 鋇鐵氧體薄膜的濺射合成
6.3.3 PC電子陶瓷薄膜的濺射合成
6.3.4 SnO2氣敏薄膜的濺射合成
6.4 離子束合成法
6.4.1 離子束合成技術(shù)
6.4.2 非晶態(tài)合金薄膜
6.4.3 非晶態(tài)復(fù)合氧化物薄膜
6.5 激光物理氣相沉積法
6.6 失重合成
思考題
第7章 單晶生長(zhǎng)
7.1 從溶液中生長(zhǎng)晶體
7.1.1 降溫法
7.1.2 流動(dòng)法（溫差法）
7.1.3 蒸發(fā)法
7.1.4 凝膠法
7.1.5 電解溶劑法
7.2 水熱法生長(zhǎng)晶體
7.2.1 水熱法晶體生長(zhǎng)技術(shù)
7.2.2 人造水晶的水熱合成
7.2.3 紅寶石的水熱合成
7.2.4 沸石單品的合成
7.2.5 其他晶體的水熱合成
7.3 從熔體中生長(zhǎng)晶體
7.3.1 熔體生長(zhǎng)過(guò)程的特點(diǎn)
7.3.2 熔體生長(zhǎng)的方法
7.3.3 提拉法
7.3.4 坩堝移動(dòng)法
7.3.5 區(qū)熔法
7.3.6 助熔劑法
7.3.7 焰熔法
7.4 高溫固相生長(zhǎng)
7.4.1 再結(jié)晶法
7.4.2 多形體相變
7.5 流變相反應(yīng)法
7.5.1 雙核苯甲酸銅晶體的制備
7.5.2 噻吩羧酸銪晶體的制備
思考題
第8章 典型無(wú)機(jī)材料的合成
8.1 精細(xì)陶瓷材料的合成
8.1.1 概述
8.1.2 精細(xì)陶瓷原粉的化學(xué)合成
8.1.3 精細(xì)陶瓷的成型
8.1.4 精細(xì)陶瓷的燒結(jié)
8.2 納米粉體材料的合成
8.2.1 引言
8.2.2 納米粒子的基本理論
8.2.3 納米粒子的特性
8.2.4 納米粒子的制備
8.3 非晶態(tài)材料的合成
8.3.1 概述
8.3.2 非晶態(tài)材料的結(jié)構(gòu)特征
8.3.3 非晶態(tài)材料的制備
8.4 沸石分子篩催化材料的合成
8.5 色心晶體的合成
8.5.1 色心的含義及類(lèi)型
8.5.2 色心的制備
思考題
第9章 典型無(wú)機(jī)化合物的合成化學(xué)
9.1 配位化合物的合成
9.1.1 直接配位反應(yīng)法
9.1.2 組分交換反應(yīng)法
9.1.3 元件組裝反應(yīng)法
9.1.4 氧化還原反應(yīng)法
9.2 有機(jī)金屬化合物的合成
9.2.1 有機(jī)金屬化學(xué)基礎(chǔ)知識(shí)
9.2.2 羰基化合物
9.2.3 烯烴和炔烴配合物
9.2.4 夾心配合物
9.3 金屬簇合物的合成
9.3.1 雙核簇合物
9.3.2 三核簇合物
9.3.3 四核和六核簇合物
9.3.4 羰基金屬簇合物
9.3.5 金屬一硫原子簇化合物
9.3.6 硼籠簇合物
9.4 非化學(xué)計(jì)量比化合物的合成
9.4.1 高溫固相反應(yīng)合成
9.4.2 摻雜合成
9.4.3 鈦酸鋇鐵電體
9.4.4 鈦的氧化物體系
9.4.5 穩(wěn)定化氧化鋯
9.5 標(biāo)記化合物的合成
9.5.1 同位素交換法
9.5.2 反沖標(biāo)記法
9.5.3 輻射法及核化學(xué)法
9.5.4 幾種典型的標(biāo)記化合物
思考題
第10章 無(wú)機(jī)化合物的分離和提純
10.1 概述--合成、分離與提純
10.2 萃取
10.3 蒸餾與分餾
10.4 重結(jié)晶
10.5 化學(xué)沉淀
10.6 吸附分離
10.7 區(qū)域熔融提純
10.8 離子交換法和吸附色層法
10.9 泡沫分離
10.10 膜分離
10.11 應(yīng)用舉例
參考文獻(xiàn)