真空集熱管知識280問

前言第1章 光學及工藝知識 1．什么是真空集熱管? 2．真空集熱管的發(fā)展歷程是怎樣的? 3．真空集熱管的T作原理及用途是什么? 4．太陽輻射能量有多大? 5．地球表面的太陽輻射是怎樣的? 6．什么是太陽常數(shù)? 7．絕對大氣質量是什么? 8．AMO與AM1．5輻照度的區(qū)別是什么? 9．太陽光能量如何分布? 10．什么是黑體? 11．什么是普朗克定律，它的物理意義是什么? 12．怎樣理解維恩位移定律? 13．斯蒂芬一波爾茲曼定律有什么意義? 14．發(fā)射率與實際物體輻射是什么關系? 15．選擇性吸收涂層所依據(jù)的熱輻射理論基礎是什么? 16．選擇性吸收涂層工作原理是什么? 17．在制備選擇性吸收涂層時希望得到的譜線是什么樣的? 18．選擇性吸收涂層由哪幾部分組成 19．吸收涂層的顏色是如何來的? 20．鍍膜方法有哪幾種? 21．選擇性吸收涂層制各都有哪些方式? 22．利用真空系統(tǒng)的物理氣相沉積法具體有哪些分類? 23．電阻蒸發(fā)源蒸鍍法的工作原理和優(yōu)缺點是什么? 24．電子柬蒸發(fā)源燕鍍法的工作原理、分類及有什么優(yōu)缺點? 25．高頻感應蒸發(fā)源蒸鍍法的工作原理是什么? 26．高頻感應蒸發(fā)源蒸鍍法有什么優(yōu)缺點? 27．激光束蒸發(fā)源蒸鍍法的基本情況怎樣? 28．濺射鍍膜有哪些代表性方法? 29．離子鍍的工作原理和優(yōu)點是什么? 30．選擇性吸收涂層中紅外發(fā)射層的作用和常用材料是什么? 31．不同紅外反射層對涂層的性能有什么影響? 32．選擇性吸收涂層中吸收層的作用和要求是什么? 33．選擇性吸收涂層中減反射層的作用和要求是什么? 34．電介質——金屬復合薄膜材料包括哪些? 35．選擇性吸收涂層確定設備工作參數(shù)后，影響膜層性能的主要可變因素有哪些? 36．吸收涂層中獨立層數(shù)越多越好嗎? 37．什么是反應濺射的滯回現(xiàn)象，有什么作用? 38．在利用調(diào)節(jié)反應氣體流量控制放電電壓穩(wěn)定的濺射工作模式時，為什么流量計很關鍵? 39．直流低壓輝光放電區(qū)域怎么區(qū)分? 40．怎么理解巴邢曲線? 41．如何參照巴邢曲線確定工作參數(shù)? 42．影響熱陰極電離真空計測量下限的因素是什么?如何改進? 43．真空檢混的意義? 44．從原理上講．真空檢漏可分為哪兩大類? 45．什么是等離子體鞘層? 46．浸段在等離子體中基片的懸浮電位如何計算? 47．什么是濺射產(chǎn)額? 48．濺射產(chǎn)額與哪些兇素有關? 49．為什么選用氬氣作為放電氣體? 50．為什么濺射產(chǎn)額與離子的入射方向有關? 51．濺射粒子角分布(方向分布)如何? 52．什么是濺射速率? 53．沉積速率與壓力關系如何? 54．合金薄膜沉積中濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜有何區(qū)別? 55．磁控濺射中。磁場起什么作用? 56．什么是二極濺射?其工藝參數(shù)如何? 57．什么是三極濺射?其工藝參數(shù)如何? 58．為什么射頻濺射可以濺射非導電靶材? 59．磁控靶表面的磁場強度是多少? 60．什么是靶中毒? 61．為什么反應濺射沉積速率低? 62．在靶中毒的情況下。沉積速率和反應氣體流量為什么會出現(xiàn)遲滯現(xiàn)象? 63．什么是陽極消失? 64．磁控濺射沉積中為什么會出現(xiàn)“托弧”? 65．如何根除磁控濺射中的“拉弧”現(xiàn)象? 66．為什么從大氣抽氣壓力下降越來越慢? 67．如何減少真空室器壁和工件等其他物體表面的放氣率? 68．經(jīng)過長時間精抽后，真空室本底壓力為P，而在隨后的沉積過程中，工作壓力為50P，試問這兩種情況下，真空室內(nèi)活性氣體分壓各為多少? 69．在磁控濺射或陰極電弧蒸發(fā)階段為什么要進行節(jié)流? 70．輝光清洗階段放電的壓力高低和氬氣流量與清洗效果的關系如何? 71．吸收涂層制備時一般工作步驟是什么? 72．目前在國內(nèi)常見的全玻璃真空太陽集熱管采用的選擇性吸收涂層主要有哪幾種? 73．漸變涂層與干涉涂層的主要區(qū)別是什么? 74．什么是三基色? 75．選擇性吸收涂層以什么色系為佳? 76．顏色與涂層性能之間是什么樣的關系? 77．在高吸收性能指標下，不同的鍍膜機、不同的時間段為什么難以保持所有真空集熱管顏色完全一致? 78．涂層的熱穩(wěn)定性如何衡量? 79．真空集熱管內(nèi)玻璃管的內(nèi)壁顏色的差異是否影響性能'第2章 真空及設備知識第3章 產(chǎn)品知識第4章 生產(chǎn)知識第5章 設備知識第6章 檢驗知識附錄參考文獻