碳化硅晶體生長與缺陷

定　價(jià)：￥128.00

作　者：	施爾畏著
出版社：	科學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	晶體學(xué) 科學(xué)與自然

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ISBN：	9787030341280	出版時(shí)間：	2012-05-01	包裝：	精裝
開本：	16開	頁數(shù)：	360	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡介

　　《碳化硅晶體生長與缺陷》系統(tǒng)地介紹了物理氣相輸運(yùn)（PVT）法碳化硅晶體生長與缺陷研究方面的工作，由碳化硅晶體的多型結(jié)構(gòu)與表征、碳化硅晶體的PVT法生長、氣相組分SimCn和碳化硅晶體的生長機(jī)制、碳化硅晶體的結(jié)晶缺陷四部分組成?！短蓟杈w生長與缺陷》從碳化硅晶體結(jié)構(gòu)出發(fā)，把氣相組分作為貫穿生長原料分解升華、系統(tǒng)中的質(zhì)量／能量輸運(yùn)、生長界面的結(jié)晶過程、晶體中缺陷的繁衍與發(fā)育等的一條主線，從而使讀者對(duì)PVT法碳化硅晶體生長的復(fù)雜系統(tǒng)和過程有一個(gè)全面的、深入的認(rèn)識(shí)和理解。《碳化硅晶體生長與缺陷》可供從事無機(jī)晶體生長研究的科技人員參考，亦可供從事相關(guān)領(lǐng)域研究的科技人員和在學(xué)研究生閱讀。

作者簡介

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圖書目錄

前言
1 碳化硅晶體的多型結(jié)構(gòu)與表征
1.1 晶體的多型
1.2 碳化硅晶體的結(jié)構(gòu)層與基本結(jié)構(gòu)單元
1.3 碳化硅晶體多型的共生與連生
1.4 3C-SiC多型的結(jié)構(gòu)
1.5 2H-SiC多型的結(jié)構(gòu)
1.6 4H-SiC多型的結(jié)構(gòu)
1.7 6H-SiC多型的結(jié)構(gòu)
1.8 15R-SiC多型的結(jié)構(gòu)
1.9 碳化硅晶體多型結(jié)構(gòu)參數(shù)的變化
1.10 碳化硅晶體多型結(jié)構(gòu)鑒別概述
1.11 X射線衍射法鑒別碳化硅晶體多型結(jié)構(gòu)
1.12 高分辨率透射電子顯微鏡法鑒別碳化硅晶體多型結(jié)構(gòu)
1.13 吸收光譜法鑒別碳化硅晶體多型結(jié)構(gòu)
1.14 拉曼光譜法鑒別碳化硅晶體多型結(jié)構(gòu)
符號(hào)說明和注解
2 碳化硅晶體的物理氣相輸運(yùn)（PVT）法生長
2.1 硅-碳二元體系和硅-碳-金屬元素三元體系的相圖
2.2 固態(tài)碳化硅分解升華的熱力學(xué)研究
2.3 PVT法碳化硅晶體生長技術(shù)的發(fā)展歷程
2.4 PVT法碳化硅晶體生長系統(tǒng)概述
2.5 PVT法碳化硅晶體生長模型研究
2.6 PVT法碳化硅晶體生長系統(tǒng)的可控變量與間接變量
2.7 PVT法碳化硅晶體生長系統(tǒng)變量之間的強(qiáng)耦合
2.8 生長原料區(qū)溫度場和碳化硅粉體的演變
2.9 石墨坩堝生長腔內(nèi)溫度場的演變
符號(hào)說明和注解
3 氣相組分和碳化硅晶體的生長機(jī)制
3.1 氣相組分概述
3.2 PVT法碳化硅晶體生長的螺旋位錯(cuò)機(jī)制
3.3 氣相組分在PVT法碳化硅晶體生長研究中的地位
3.4 純硅氣相組分Sim的穩(wěn)定構(gòu)型與能量
3.5 純碳?xì)庀嘟M分Cn的穩(wěn)定構(gòu)型與能量
3.6 硅碳?xì)庀嘟M分SimCn的穩(wěn)定構(gòu)型與能量
3.7 氣相組分SimCn構(gòu)型的轉(zhuǎn)變
3.8 氣相組分SimCn的化學(xué)序
3.9 氣相組分SimCn的相互作用
3.10 氣相組分SimCn在生長界面上的結(jié)晶
符號(hào)說明和注解
4 碳化硅晶體的結(jié)晶缺陷
4.1 碳化硅晶體結(jié)晶缺陷概述
4.2 碳化硅晶片結(jié)晶質(zhì)量的整體評(píng)價(jià)
4.3 碳化硅晶片幾何特性和表面加工質(zhì)量的整體評(píng)價(jià)
4.4 多型共生缺陷
4.5 鑲嵌結(jié)構(gòu)缺陷
4.6 堆垛層錯(cuò)
4.7 孔道與微管道
符號(hào)說明和注解
后記