玻璃鍍膜技術(shù)

第1章  玻璃鍍膜技術(shù)基礎(chǔ)知識(shí)
1.1  概述
1.2  玻璃的光學(xué)性質(zhì)
1.2.1  玻璃的折射率
1.2.2  玻璃的光學(xué)常數(shù)
1.2.3  玻璃的反射、吸收和透過(guò)
1.2.4  玻璃的紅外和紫外吸收
1.3  玻璃的電學(xué)及磁學(xué)性質(zhì)
1.3.1  玻璃的導(dǎo)電性
1.3.2  玻璃的介電性
1.3.3  玻璃的半導(dǎo)體性
1.3.4  玻璃的磁學(xué)性質(zhì)
1.4  玻璃的表面性質(zhì)
1.4.1  玻璃表面結(jié)構(gòu)假設(shè)理論
1.4.2  浮法玻璃表面結(jié)構(gòu)及特性
1.4.3  表面能
1.4.4  表面形貌
1.4.5  固體、氣體及固體、固體間的相互作用
第2章  玻璃和薄膜
2.1  玻璃和薄膜之間的關(guān)系
2.2  襯底與膜之間的附著力
2.2.1  附著力的測(cè)量方法
2.2.2  黏附的原因
2.2.3  影響附著力的因素
2.2.4  附著力的測(cè)量
2.2.5  附著力研究趨勢(shì)
第3章  玻璃膜制備方法
3.1  真空陰極磁控濺射法
3.1.1  濺射原理
3.1.2  磁控濺射工藝
3.1.3  磁控濺射生產(chǎn)材料
3.1.4  磁控濺射法的生產(chǎn)方式和工藝流程
3.1.5  磁控濺射法生產(chǎn)鍍膜玻璃的特點(diǎn)
3.1.6  磁控濺射法生產(chǎn)鍍膜玻璃的注意事項(xiàng)
3.2  化學(xué)氣相沉積法
3.2.1  離線CVD法
3.2.2  在線CVD法
3.2.3  化學(xué)氣相沉積法生產(chǎn)的注意事項(xiàng)
3.3  凝膠浸鍍法
3.3.1  成膜原理
3.3.2  浸鍍?nèi)芤褐苽?br />3.3.3  凝膠浸鍍法制備膜
3.3.4  凝膠浸鍍法的特點(diǎn)
3.4  真空蒸鍍法
3.4.1  真空蒸發(fā)原理
3.4.2  成膜過(guò)程
3.4.3  真空蒸鍍法的種類
3.4.4  真空蒸鍍法的工藝流程及設(shè)備
3.4.5  蒸鍍法與濺射法的比較
3.5  噴鍍法
3.5.1  噴鍍法與CVD法的關(guān)系
3.5.2  噴鍍法的生產(chǎn)方法
3.6  其他方法
3.6.1  電浮法
3.6.2  濕膜沉積法
3.6.3  離子鍍膜法
第4章  陽(yáng)光控制膜的制備
4.1  膜層材料及膜系結(jié)構(gòu)
4.1.1  膜層材料
4.1.2  膜系結(jié)構(gòu)
4.1.3  陽(yáng)光控制膜的節(jié)能原理
4.2  陽(yáng)光控制鍍膜工藝
4.2.1  磁控濺射法
4.2.2  在線CVD法
4.3  陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的使用
4.3.1  設(shè)計(jì)過(guò)程
4.3.2  安裝
4.3.3  使用維護(hù)
4.4  陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的性能、標(biāo)準(zhǔn)及檢測(cè)
4.4.1  陽(yáng)光控制鍍膜玻璃的主要性能
4.4.2  陽(yáng)光控制鍍膜玻璃標(biāo)準(zhǔn)及檢測(cè)方法
第5章  低輻射膜的制備
5.1  概述
5.1.1  低輻射膜的定義
5.1.2  低輻射膜分類
5.1.3  低輻射玻璃發(fā)展現(xiàn)狀
5.2  低輻射膜的節(jié)能原理
5.3  離線低輻射膜的制備
5.3.1  離線低輻射膜系結(jié)構(gòu)
5.3.2  離線低輻射膜的特點(diǎn)及性能
5.3.3  離線低輻射膜的生產(chǎn)
5.4  在線低輻射膜的制備
5.4.1  在線低輻射膜的膜層結(jié)構(gòu)
5.4.2  在線低輻射膜的性能
5.4.3  在線低輻射膜的生產(chǎn)
5.4.4  在線低輻射膜生產(chǎn)制備注意事項(xiàng)
5.5  離線低輻射玻璃與在線低輻射玻璃的區(qū)別
5.5.1  深加工性能的區(qū)別
5.5.2  其他性能的區(qū)別
5.5.3  節(jié)能效果的區(qū)別
5.6  低輻射玻璃的使用方法
5.6.1  低輻射玻璃膜面辨認(rèn)方法
5.6.2  低輻射玻璃的最佳使用方法
5.7  低輻射玻璃的應(yīng)用
5.7.1  不同地區(qū)建筑物對(duì)低輻射玻璃的要求
5.7.2  低輻射玻璃在建筑門窗中的應(yīng)用
5.7.3  低輻射玻璃在建筑玻璃幕墻中的應(yīng)用
5.7.4  低輻射玻璃在其他行業(yè)中的應(yīng)用
5.8  低輻射玻璃的性能、標(biāo)準(zhǔn)及檢測(cè)
5.8.1  低輻射玻璃光譜特性
5.8.2  低輻射玻璃標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介及檢測(cè)方法
5.9  低輻射玻璃的發(fā)展方向及趨勢(shì)
5.9.1  改善生產(chǎn)方法帶來(lái)的產(chǎn)品缺陷
5.9.2  改善地區(qū)適用差異
第6章  自潔凈膜的制備
6.1  概述
6.1.1  自潔凈膜的定義
6.1.2  自潔凈膜分類
6.1.3  自潔凈膜發(fā)展現(xiàn)狀
6.2  自潔原理
6.3  自潔凈膜的制備方法
6.3.1  溶膠?凝膠法
6.3.2  磁控濺射法
6.3.3  離線CVD法
6.3.4  在線CVD法
6.3.5  溶液鍍膜法
6.4  自潔凈玻璃的使用
6.5  自潔凈玻璃的性能及檢測(cè)
6.5.1  自潔凈玻璃的品種與規(guī)格
6.5.2  自潔凈玻璃主要性能及檢測(cè)方法
6.5.3  提高自潔凈玻璃自潔性能主要措施
6.6  自潔凈玻璃發(fā)展方向及趨勢(shì)
第7章  電磁屏蔽膜的制備
7.1  概述
7.1.1  電磁屏蔽玻璃定義
7.1.2  電磁屏蔽玻璃分類
7.2  電磁屏蔽基本原理
7.2.1  電磁屏蔽基本機(jī)理
7.2.2  電磁屏蔽效能
7.3  電磁屏蔽膜的制備
7.3.1  電磁屏蔽膜的定義與結(jié)構(gòu)
7.3.2  電磁屏蔽膜的屏蔽效能
7.3.3  電磁屏蔽膜的制備
7.3.4  電加熱電磁屏蔽膜
7.4  電磁屏蔽玻璃的應(yīng)用
7.4.1  電磁屏蔽玻璃的應(yīng)用領(lǐng)域
7.4.2  電磁屏蔽玻璃的應(yīng)用設(shè)計(jì)
7.5  電磁屏蔽玻璃的發(fā)展方向及趨勢(shì)
第8章  光伏用透明導(dǎo)電膜的制備
8.1  概述
8.1.1  透明導(dǎo)電膜的概念
8.1.2  透明導(dǎo)電膜的分類
8.2  幾種典型透明導(dǎo)電膜
8.2.1  ITO膜
8.2.2  FTO膜
8.2.3  AZO膜
8.3  透明導(dǎo)電膜的制備
8.3.1  ITO膜的制備
8.3.2  AZO膜的制備
8.4  光伏用透明導(dǎo)電膜
8.4.1  薄膜光伏電池簡(jiǎn)介
8.4.2  光伏用透明導(dǎo)電膜的性能要求
8.4.3  光伏透明導(dǎo)電膜的導(dǎo)電性能
8.4.4  光伏透明導(dǎo)電膜的透光性能
8.4.5  光伏透明膜的光散射性能
第9章  玻璃鏡的制備
9.1  真空制鏡
9.1.1  真空制鏡的設(shè)備及工藝流程
9.1.2  真空制鏡生產(chǎn)常見問(wèn)題及解決方法
9.2  化學(xué)鍍銀鏡
9.2.1  化學(xué)鍍銀的基本原理
9.2.2  化學(xué)鍍銀鏡制備工藝流程及設(shè)備
9.2.3  玻璃銀鏡膜層及性能
參考文獻(xiàn)