流體輔助微納拋光原理與技術(shù)

定　價：￥75.00

作　者：	程灝波著
出版社：	科學(xué)出版社有限責(zé)任公司
叢編項：
標(biāo)　簽：	工業(yè)技術(shù) 金屬學(xué)與金屬工藝

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ISBN：	9787030405210	出版時間：	2014-05-01	包裝：	平裝
開本：	32開	頁數(shù)：	252	字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　《流體輔助微納拋光原理與技術(shù)》結(jié)合著者科研團隊多年在流體輔助拋光技術(shù)領(lǐng)域的研究和經(jīng)驗，對目前應(yīng)用較為廣泛的流體輔助拋光方法從淺到深進行系統(tǒng)的介紹。不僅包括了技術(shù)的發(fā)展和加工機理，而且介紹了相關(guān)的加工系統(tǒng)和目前最新的工藝研究成果，使讀者對前人的工作能夠全面的認識和理解。全書共分為九章。其中從而二章開始每一章為讀者介紹一種流體輔助拋光技術(shù)。有第二章開始一次介紹了磁介質(zhì)輔助研拋技術(shù)、第三章講述磁流變拋光技術(shù)、電流變拋光技術(shù)、氣射流拋光技術(shù)、磨料水射拋光技術(shù)、磁射流拋光技術(shù)、浮法拋光技術(shù)、化學(xué)拋光。

作者簡介

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圖書目錄

第1章緒論
1.1 概述
1.2 流體輔助拋光技術(shù)的分類
1.3 流體輔助拋光技術(shù)的發(fā)展
第2章磁介質(zhì)輔助加工
2.1 磁場輔助拋光技術(shù)
2.2 磁性液體拋光技術(shù)
2.3 磁力研磨技術(shù)
參考文獻
第3章磁流變拋光
3.1 概述
3.2 磁學(xué)理論基礎(chǔ)
3.3 拋光系統(tǒng)與模型
3.4 磁流變拋光液
3.5 工藝研究
3.6 小結(jié)
參考文獻
第4章電流變拋光
4.1 概述
4.2 電流變液體
4.3 電流變拋光液
4.4 電流變拋光模型
4.5 裝置設(shè)計與分析
4.6 工藝研究
4.7 小結(jié)
參考文獻
第5章氣射流拋光
5.1 概述
5.2 基本原理
5.3 加工機理與技術(shù)
5.4 加工仿真與實驗研究
5.5 小結(jié)
參考文獻
第6章水射流拋光
6.1 概述
6.2 基本原理與特點
6.3 論模型
6.4 工藝研究
6.5 小結(jié)
參考文獻
第7章磁射流拋光
7.1 概述
7.2 流體動力學(xué)理論基礎(chǔ)
7.3 液柱保形機理
7.4 去除函數(shù)模型與特性
7.5 工藝研究
7.6 加工裝置
7.7 小結(jié)
參考文獻
第8章浮法拋光
8.1 概述
8.2 機理與模型
8.3 工藝研究
8.4 小結(jié)
參考文獻
第9章化學(xué)拋光
9.1 概述
9.2 機理與原理
9.3 加工設(shè)備
9.4 小結(jié)
參考文獻