原子光譜分析基礎(chǔ)與應(yīng)用

第1章 概述1.1 原子光譜分析簡介1.1.1 原子吸收光譜分析1.1.2 電感耦合等離子體發(fā)射光譜分析1.1.3 電感耦合等離子體質(zhì)譜分析1.2 原子光譜中一些常見術(shù)語
第2章 原子吸收光譜分析2.1 儀器基本結(jié)構(gòu)2.1.1 光源2.1.2 原子化系統(tǒng)2.1.3 分光系統(tǒng)2.1.4 光路系統(tǒng)2.1.5 檢測系統(tǒng)2.2 儀器性能2.2.1 火焰原子吸收光譜分析2.2.2 石墨爐原子吸收光譜分析2.3 干擾及其校正2.3.1 FAAS中的干擾及其校正2.3.2 GFAAS中的干擾及其校正
第3章 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜分析3.1 儀器基本結(jié)構(gòu)3.1.1 進(jìn)樣系統(tǒng)3.1.2 光源3.1.3 氣路系統(tǒng)3.1.4 射頻發(fā)生器3.1.5 分光（色散）系統(tǒng)3.1.6 檢測系統(tǒng)3.2 ICP炬焰的形成與機(jī)理3.2.1 ICP炬焰的形成3.2.2 ICP炬焰結(jié)構(gòu)3.2.3 ICP激發(fā)機(jī)理3.2.4 ICP的分析特性3.3 儀器性能3.3.1 分析靈敏度3.3.2 檢出限3.3.3 精密度3.4 干擾及其校正3.4.1 物理干擾及其校正3.4.2 化學(xué)干擾及其校正3.4.3 電離干擾及其校正3.4.4 背景干擾及其校正
第4章 電感耦合等離子體質(zhì)譜分析4.1 儀器基本結(jié)構(gòu)4.1.1 進(jìn)樣系統(tǒng)4.1.2 ICP離子源4.1.3 接口部分4.1.4 真空系統(tǒng)4.1.5 離子透鏡4.1.6 質(zhì)量分析器4.1.7 離子檢測系統(tǒng)4.2 儀器特性4.3 干擾及其校正4.3.1 非質(zhì)譜干擾4.3.2 質(zhì)譜干擾4.3.3 解決質(zhì)譜干擾的途徑
第5章 原子光譜分析在水環(huán)境元素檢測中的應(yīng)用5.1 概述5.2 樣品的預(yù)處理5.2.1 樣品的采集5.2.2 樣品的預(yù)處理與儲存5.3 質(zhì)量控制方法5.3.1 實(shí)驗(yàn)室分析質(zhì)量控制流程5.3.2 標(biāo)準(zhǔn)參照物5.3.3 質(zhì)量控制圖的繪制5.3.4 ICP-MS水標(biāo)準(zhǔn)方法5.4 分析應(yīng)用實(shí)例5.4.1 飲用水分析5.4.2 海水分析5.4.3 預(yù)富集一原子吸收光譜分析法測定水中Cr形態(tài)
第6章 原子光譜分析在土壤重金屬元素檢測中的應(yīng)用6.1 概述6.2 土壤樣品預(yù)處理及消解6.2.1 酸體系的選擇6.2.2 消解方法選擇6.3 分析應(yīng)用實(shí)例6.3.1 AAS測定土壤中銅、鋅、鉛、鎘6.3.2 ICP-AES測定酒鬼酒生態(tài)工業(yè)園區(qū)土壤中6種重金屬元素6.3.3 ICP-MS檢測不同種植制度下土壤中重金屬含量
第7章 原子光譜分析在地質(zhì)礦產(chǎn)勘探檢測中的應(yīng)用7.1 概述7.2 地質(zhì)樣品預(yù)處理及消解7.2.1 堿熔法消解地質(zhì)樣品7.2.2 酸溶法消解地質(zhì)樣品7.3 分析應(yīng)用實(shí)例7.3.1 AAS測定地質(zhì)樣品中的銀7.3.2 ICP-AES法同時(shí)測定地質(zhì)樣品中Cu-Pb-Zn-Sc-Mo7.3.3 ICP-MS應(yīng)用于稀土、稀散以及鈮、鉭、鋯、鉿等多元素分析。7.3.4 ICP-MS應(yīng)用于鉑族元素分析7.3.5 ICP-MS同時(shí)測定地質(zhì)樣品中40多種微量、痕量、超痕量元素7.3.6 LA-ICP-MS在單個(gè)流體包裹體元素化學(xué)組成分析中的應(yīng)用
第8章 原子光譜分析在大氣環(huán)境顆粒物分析中的應(yīng)用8.1 概述8.1.1 大氣顆粒物的理化性質(zhì)8.1.2 大氣顆粒物的環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)8.1.3 大氣顆粒物中的元素分析8.2 大氣顆粒物樣品預(yù)處理及消解8.2.1 樣品的采集8.2.2 樣品的制備8.2.3 樣品的消解8.3 分析應(yīng)用實(shí)例8.3.1 AAS應(yīng)用于大氣顆粒物的分析實(shí)例8.3.2 ICP-AES應(yīng)用于大氣顆粒物的分析實(shí)例8.3.3 ICP-MS應(yīng)用于大氣顆粒物的分析實(shí)例
第9章 原子光譜分析在無機(jī)非金屬材料測定中的應(yīng)用9.1 概述9.2 試樣分解9.3 分析應(yīng)用實(shí)例9.3.1 AAS測定氮化硅陶瓷材料中的鈣、鎂和鐵9.3.2 ICP-AES測定碳化硅中雜質(zhì)元素9.3.3 ICP-AKS測定碳化硼中痕量雜質(zhì)元素9.3.4 ICP-AES同時(shí)測定高純石英砂中硼和磷含量9.3.5 ICP-MS測定鎳鈷錳三元素氫氧化物中鉛
第10章 原子光譜分析在高純材料雜質(zhì)元素檢測中的應(yīng)用10.1 概述10.2 高純材料純度分析污染控制10.2.1 大氣污染的控制10.2.2 實(shí)驗(yàn)器具污染的控制10.2.3 試劑的控制10.2.4 制備過程中需要避免的其他污染10.3 高純材料檢測實(shí)例10.3.1 高純碲的檢測10.3.2 高純氧化鋁的檢測10.3.3 高純氧化鉍、氧化鍺的檢測10.3.4 高純試劑的分析
附錄Ⅰ FAAS和GFAAS的典型特征濃度和檢出限Ⅱ ICP-AES分析線與檢出限Ⅲ 天然同位素表Ⅳ ICP-QMS多原子離子干擾匯總表