脈沖激光沉積技術是一種研究和開發(fā)新型高性能材料的有效途徑，在制備新型碳材料——類金剛石膜方面，以其獨有的特點，逐漸顯現出填補傳統技術空白的優(yōu)勢。但是，脈沖激光沉積技術制備的類金剛石膜也存在一些固有的缺陷，如內應力大、大面積不均勻等問題。如何采用脈沖激光沉積技術制備出具有工程應用價值的類金剛石膜，一直是國內外相關領域研究者的目標。程勇等編著的《脈沖激光沉積類金剛石膜技術》共7章內容。從介紹類金剛石膜性質、組成、制備及應用入手，闡述脈沖激光沉積技術及其在制備類金剛石膜方面的機理和優(yōu)點、缺點，以及類金剛石膜的測試與表征；詳細討論激光參數、基底狀態(tài)、靶材種類以及環(huán)境氣氛等因素對類金剛石膜性能的影響，偏重于闡述摻雜、退火、膜層結構及雙激光技術等類金剛石膜降低內應力、提高膜層各種性能的改性技術；針對類金剛石膜的工程應用中存在的大面積不均勻、制備效率低的現實問題，展現多功能激光沉積系統，闡述脈沖激光沉積大尺寸均勻平面和球面類金剛石膜的裝置、模型及實驗；最后介紹脈沖激光沉積技術在制備其他功能薄膜方面的應用，展望該技術未來發(fā)展趨勢和前景。《脈沖激光沉積類金剛石膜技術》可供從事激光沉積技術和類金剛石膜相關的研究和應用人員閱讀和參考，也可供高等院校光學、激光、材料、機械和電子等相關專業(yè)的學生參考。
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