美國(guó)專利申請(qǐng)撰寫及審查處理策略

目錄
第一章 美國(guó)專利申請(qǐng)的撰寫
第一節(jié) - 入門-權(quán)利要求的撰寫
A.從準(zhǔn)備專利附圖和撰寫權(quán)利要求開(kāi)始
B.準(zhǔn)備權(quán)利要求樹(shù) - 為什么需要權(quán)利要求樹(shù)？
C.在完整權(quán)利要求樹(shù)的基礎(chǔ)上撰寫第一稿權(quán)利要求
D.修改第一稿權(quán)利要求
E.使用權(quán)利要求樹(shù)撰寫權(quán)利要求 - 總結(jié).
F.類型相同、對(duì)發(fā)明描述不同的權(quán)利要求示例.
G.范圍
H.由方法限定的產(chǎn)品
第二節(jié)- 說(shuō)明書的撰寫
A.避免使用發(fā)明（“INVENTION”）以及諸如此類的詞語(yǔ)
B.段落標(biāo)題
C.開(kāi)頭段
D.遵守美國(guó)專利法第112條第一段的規(guī)定
E. 提供充分詳細(xì)的附圖說(shuō)明使讀者不需要參照附圖想象出所公開(kāi)的實(shí)施例.
F.定義
G. 結(jié)構(gòu)清楚
H. 術(shù)語(yǔ)
I. 可替代的工作示例
J. 支持范圍以及裝置加功能的限定
K. 避免對(duì)“安全性”的討論
L. 避免/最小化美國(guó)專利法第101條的問(wèn)題
M. 避免使用絕對(duì)詞
N. 標(biāo)題
O. 交叉引用的陳述
P. 技術(shù)領(lǐng)域
Q. 背景技術(shù)
R. 發(fā)明內(nèi)容（Summary）
S. 附圖及其簡(jiǎn)要說(shuō)明
T．摘要
第二章專利申請(qǐng)審查處理
第三章高級(jí)審查話題
A.簡(jiǎn)要?dú)v史回顧
B. 用于克服AIA法案之前的美國(guó)專利法第102（a）或102（e）款所規(guī)定的對(duì)比文件的爭(zhēng)辯或者修改
C.KSR案之后的非顯而易見(jiàn)性反駁爭(zhēng)辯
D.繼續(xù)審查請(qǐng)求
E.針對(duì)美國(guó)專利商標(biāo)局的KSR顯而易見(jiàn)性駁回的申請(qǐng)撰寫實(shí)踐技巧.
F.處理美國(guó)專利商標(biāo)局的KSR顯而易見(jiàn)性駁回的審查處理實(shí)踐技巧.
G.分案申請(qǐng)
H.部分繼續(xù)申請(qǐng)
J.上訴前簡(jiǎn)要審查請(qǐng)求
L.最終審查意見(jiàn)之后的實(shí)踐總結(jié)
第四章中國(guó)和美國(guó)專利事務(wù)實(shí)踐的比較和處理技巧
結(jié)語(yǔ)
附錄1 – 圍嘴披露（交底書）
附錄2 –申請(qǐng)撰寫的簡(jiǎn)要檢查清單
測(cè)驗(yàn)答案
編譯者的致謝