《絕緣體上硅(SOI)技術:制造及應用》的目的是對SOI CMOS新技術的進展進行全面介紹。全書分為兩部分:*部分介紹SOI晶圓片的制造工藝、表征及SOI器件物理;第二部分介紹相關的各種應用。全書既涉及部分耗盡SOI這樣已成熟的技術,也包括全耗盡平面SOI技術、FinFET、射頻、光電子、MEMS以及超低功耗應用這樣一些新發(fā)展的技術。晶體管級和電路級解決方案也均有涉及。我們將這《絕緣體上硅(SOI)技術:制造及應用》的解決方案限定在32~14nm技術節(jié)點的范圍,并將應用限定在技術成熟到足以實現(xiàn)批量生產的范圍。