表面分析技術（精）

定　價：￥200.00

作　者：	[英] 約翰·C.維克曼，伊恩·S.吉爾摩編，陳建，謝方艷，李展平，尹詩衡，龔力譯
出版社：	中山大學出版社
叢編項：
標　簽：	暫缺

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ISBN：	9787306066893	出版時間：	2020-12-01	包裝：	精裝
開本：	16開	頁數(shù)：	530	字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　本書介紹表面分析主要技術，包括俄歇電子能譜、X射線光電子能譜、二次離子質(zhì)譜、低能粒子散射和盧瑟福背散射技術、表面分子振動光譜技術以及擴展X射線吸收精細結構和掃描隧道顯微技術、原子力顯微技術等。本書主要闡述上述表面分析技術的基本原理和實用樣品實例分析，每章結尾處還附有相關的分析練習題供讀者訓練，判斷自己對書中知識內(nèi)容掌握的程度。

作者簡介

　　陳建，1969年1月生。中山大學研究員、教授、博士生導師。2001年獲中山大學凝聚態(tài)物理博士學位，導師許寧生院士。2002—2003年在香港中文大學從事博士后研究工作。現(xiàn)任國際標準化委員會委員、中國物理學會光散射專業(yè)委員會秘書長、全國微束分析標準化技術委員會表面化學分析分技術委員會委員、廣東省分析測試協(xié)會理事、廣東省表面分析專業(yè)委員會主任委員、廣東省石墨烯標準化技術委員會委員以及《光散射學報》和《光譜學與光譜分析》編委。

圖書目錄

第1章引言
1.1 如何定義表面
1.2 表面有多少個原子
1.3 需要的信息
1.4 表面靈敏度
1.5 輻射效應與表面損傷
1.6 數(shù)據(jù)的復雜性
第2章俄歇電子能譜
2.1 引言
2.2 俄歇過程的原理
2.2.1 俄歇峰的動能
2.2.2 電離截面
2.2.3 俄歇電子和光子出射的比較
2.2.4 電子背散射
2.2.5 逃逸深度
2.2.6 化學位移
2.3 儀器設備
2.3.1 電子源
2.3.2 譜儀
2.3.3 采集方式
2.3.4 檢測限
2.3.5 儀器校準
2.4 定量分析
2.5 深度剖析
2.5.1 薄膜校準標樣
2.5.2 深度分辨率
2.5.3 濺射速率
2.5.4 擇優(yōu)濺射
2.5.5 λ-修正
2.5.6 AES剖析中的化學位移
2.6 結論
思考題
第3章化學分析用電子能譜
3.1 概述
3.1.1 基本ESCA實驗
3.1.2 光電效應和ESCA的歷史
3.1.3 ESCA提供的信息
3.2 X射線與物質(zhì)的相互作用、光電效應和固體的光電發(fā)射
3.3 結合能和化學位移
3.3.1 Koopmans定理
3.3.2 初態(tài)效應
3.3.3 終態(tài)效應
3.3.4 結合能參考基準
3.3.5 絕緣體的電荷補償
3.3.6 峰寬
3.3.7 峰擬合
3.4 非彈性平均自由程和采樣深度
3.5 定量
3.5.1 定量方法
3.5.2 定量標準
3.5.3 定量實例
3.6 譜圖特征
3.7 儀器
3.7.1 ESCA實驗的真空系統(tǒng)
3.7.2 X射線源
3.7.3 分析器
3.7.4 數(shù)據(jù)系統(tǒng)
3.7.5 附件
3.8 譜圖質(zhì)量
3.9 深度剖析
3.10 X-Y分布和成像
3.11 化學衍生法
3.12 價帶
3.13 展望
……
第4章 SIMS的分子表面質(zhì)譜
第5章動態(tài)SIMS
第6章低能離子散射和盧瑟福背散射
第7章表面振動光譜
第8章基于干涉技術的表面結構確定
第9章掃描探針顯微鏡
第10章多變量數(shù)據(jù)分析技術在表面分析中的應用
附錄1 應用表面科學真空技術
附錄2 單位、基本物理常數(shù)和換算