磁場下復合電沉積法制備鐵：硅鍍層

定　價：￥48.00

作　者：	龍瓊著
出版社：	中國礦業(yè)大學出版社
叢編項：
標　簽：	暫缺

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ISBN：	9787564648060	出版時間：	2021-01-01	包裝：	平裝
開本：	16開	頁數(shù)：		字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　本書共分為6章，主要內(nèi)容包含：緒論，F(xiàn)e-Si復合鍍層制備研究方案，無磁場下Fe-Si鍍層的制備，水平磁場下制備Fe-Si復合鍍層，豎直強磁場下制備Fe-Si復合鍍層，以及磁場下電化學研究電沉積鐵過程等。本書所述內(nèi)容具有前瞻性和實用性。本書可供從事高硅鋼薄帶制備、電磁冶金、表面改性、新材料制備等研究方向的人員使用，亦可供相關企業(yè)技術人員參考使用。