薄膜真空沉積中的等離子體探測方法與技術(shù)

目錄
前言
第1章 等離子體技術(shù)與薄膜真空沉積 1
1.1 低溫等離子體概述 1
1.2 低溫等離子體的產(chǎn)生 4
1.3 應(yīng)用等離子體技術(shù)的薄膜真空沉積方法 7
1.4 低溫等離子體的測量與表征方法 15
1.5 應(yīng)用于薄膜真空沉積的等離子體綜合探測平臺(tái) 17
1.6 本章小結(jié) 22
參考文獻(xiàn) 22
第2章 等離子體的直接探測技術(shù) 24
2.1 朗繆爾探針技術(shù) 24
2.2 應(yīng)用于低溫等離子體探測的質(zhì)譜技術(shù)概述 32
2.3 本章小結(jié) 35
參考文獻(xiàn) 36
第3章 等離子體的間接表征技術(shù) 37
3.1 發(fā)射光譜技術(shù) 37
3.2 等離子體成像技術(shù) 46
3.3 本章小結(jié) 49
參考文獻(xiàn) 49
第4章 脈沖激光沉積（1）：激光誘導(dǎo)等離子體的初始性質(zhì) 50
4.1 脈沖激光誘導(dǎo)等離子體的產(chǎn)生與傳播機(jī)理 51
4.2 脈沖激光誘導(dǎo)初始等離子體的離子特性 59
4.3 脈沖激光誘導(dǎo)等離子體中的電子性質(zhì) 63
4.4 脈沖激光誘導(dǎo)非金屬單質(zhì)的等離子體性質(zhì) 70
4.5 脈沖激光沉積法生長合金化合物 75
4.6 本章小結(jié) 78
參考文獻(xiàn) 78
第5章 脈沖激光沉積（2）：等離子體與背景氣體的物理作用 80
5.1 等離子體與背景氣體間的相互作用 80
5.2 氣體平均碰撞自由程與等離子體傳輸模式 81
5.3 氧化性背景氣體壓力對脈沖激光沉積的影響關(guān)系 85
5.4 惰性氣體壓力對脈沖激光沉積的影響關(guān)系 88
5.5 盧瑟福背散射與彈性反沖探測分析技術(shù) 93
5.6 本章小結(jié) 95
參考文獻(xiàn) 95
第6章 脈沖激光沉積（3）：等離子體與背景氣體間化學(xué)反應(yīng) 97
6.1 氧氣背景氣體壓力對等離子體組分的調(diào)控關(guān)系 97
6.2 氧氣下脈沖激光沉積切削能量密度對等離子體組分的調(diào)控關(guān)系 104
6.3 氧氣背景氣體下脈沖激光沉積中金屬元素的普適性氧化規(guī)律 107
6.4 脈沖激光沉積氧化物薄膜中氧元素的來源追蹤 110
6.5 3-YSZ、Ca3Co4O9脈沖激光沉積中的等離子體化學(xué)反應(yīng) 114
6.6 本章小結(jié) 120
參考文獻(xiàn) 120
第7章 脈沖激光沉積（4）：N2O強(qiáng)氧化性氣體下的等離子體反應(yīng) 122
7.1 N2O背景氣體下脈沖激光誘導(dǎo)等離子體特性舉例 122
7.2 N2O背景氣體中等離子體化學(xué)反應(yīng)的普適性規(guī)律 125
7.3 N2O背景氣體中等離子體的離子動(dòng)能 128
7.4 N2O背景氣體下氧化物脈沖激光沉積薄膜中的氧元素追蹤 132
7.5 本章小結(jié) 134
參考文獻(xiàn) 134
第8章 脈沖激光沉積（5）：脈沖氣體交叉反應(yīng)切削 136
8.1 脈沖氣體交叉反應(yīng)切削沉積技術(shù)簡介 136
8.2 脈沖氣體交叉反應(yīng)沉積的等離子體綜合探測平臺(tái) 137
8.3 從等離子體角度討論脈沖氣體交叉反應(yīng)沉積的技術(shù)特點(diǎn) 137
8.4 本章小結(jié) 145
參考文獻(xiàn) 145
第9章 總結(jié)與展望 147