圖解入門 半導體制造設備基礎與構造精講（原書第3版）

　　本書以簡潔明了的結構向讀者展現(xiàn)了半導體制造工藝中使用的設備基礎和構造。全書涵蓋了半導體制造設備的現(xiàn)狀以及展望，同時也對清洗和干燥設備、離子注入設備、熱處理設備、光刻設備、蝕刻設備、成膜設備、平坦化設備、監(jiān)測和分析設備、后段制程設備等逐章進行解說。雖然包含了很多生澀的詞匯，但難能可貴的是全書提供了豐富的圖片和表格，幫助讀者進行理解。相信本書一定能帶領讀者進入一個半導體制造設備的立體世界。 本書適合從事半導體與芯片加工、設計的從業(yè)者，以及準備涉足上述領域的上班族和學生閱讀參考。 此版本僅限在中國大陸地區(qū)（不包括香港、澳門特別行政區(qū)及臺灣地區(qū)）銷售。

　　佐藤淳一，畢業(yè)于京都大學工學研究科，并獲得碩士學位。1978年開始就職于東京電氣化學工業(yè)株式會社（現(xiàn)TDK），1982年開始就職于索尼公司。一直從事半導體和薄膜器件相關工藝的研究開發(fā)工作。在此期間，參與創(chuàng)建半導體尖端技術公司，擔任長崎大學兼職講師、行業(yè)協(xié)會委員等職位，同時也是應用物理學會員。譯者簡介 盧濤，江蘇常州人，日本中央大學工科碩士。精通各種半導體制造設備流程與開發(fā)，曾參與半導體工廠數(shù)據(jù)的實時傳輸和設備狀態(tài)的分析。