二、三維微納米材料的制備與表征

　　《二、三維微納米材料的制備與表征》概述了從微觀到納米尺度的廣泛樣品制備和表征技術(shù)的科學(xué)原理，分為兩個(gè)部分：第一部分描述二維和三維制造技術(shù)；第二部分為在相同的分辨率尺度上新的表征技術(shù)。第1章討論了激光干涉條紋法在宏觀區(qū)域快速制造亞微米級(jí)到微米級(jí)周期條紋的可能性。第2章介紹了不同的激光輔助微加工技術(shù)及激光微加工的典型應(yīng)用，包括鉆孔、切割和標(biāo)記。第3章討論了利用不同的方法，如納米壓印光刻和納米球自組裝，制備具有增強(qiáng)光學(xué)性能的納米結(jié)構(gòu)材料。此外，還介紹了光學(xué)性質(zhì)的表征。第4章主要研究離子束濺射自組織圖形的形成，給出了方法和實(shí)驗(yàn)觀測(cè)的一般描述，展示了涉及的過(guò)程的復(fù)雜性，并指出了該技術(shù)的巨大潛力。第5章描述了利用附件制造技術(shù)制造具有增強(qiáng)力學(xué)性能的單元結(jié)構(gòu)，重點(diǎn)介紹了雙光子聚合方法的研究進(jìn)展。第6章和第7章討論了不同的X射線層析成像方法，包括微焦點(diǎn)x射線計(jì)算機(jī)層析成像和利用高能同步輻射的亞微米層析成像；同時(shí)還介紹了透射光束的光學(xué)x射線相位在提高該方法靈敏度方面的應(yīng)用，給出了結(jié)構(gòu)三維表征和缺陷分析的不同實(shí)例。第8章介紹了聚焦離子束斷層掃描方法，該方法通過(guò)重建由電子、X射線或離子探測(cè)器成像的二維切割（切片）提供的信息，實(shí)現(xiàn)對(duì)三維幾何圖形的納米表征。第9章介紹了原子探針層析成像方法，該方法能夠在原子尺度上繪制出物質(zhì)中化學(xué)成分的三維分布；此外介紹了可分析半導(dǎo)體或氧化物的新方法?！抖⑷S微納米材料的制備與表征》中描述的方法表明，通常有各種各樣的方法用來(lái)制造和表征微納米結(jié)構(gòu)，在許多情況下使用的設(shè)備是商業(yè)上可用的或很容易組裝的。《二、三維微納米材料的制備與表征》可供從事材料科學(xué)和工程的本科生、研究生及研究人員使用。

暫缺《二、三維微納米材料的制備與表征》作者簡(jiǎn)介