光學元件磁流變拋光理論與關鍵技術

第1章 緒論
1．1 研究背景和意義
1．1．1 高精度光學鏡面的需求
1．1．2 高精度光學鏡面拋光方法
1．1．3 本書研究的意義
1．2 磁流變拋光國內外研究現狀
1．2．1 磁流變拋光技術發(fā)展過程
1．2．2 磁流變拋光技術國內外發(fā)展現狀
1．2．3 磁流變拋光關鍵技術與研究熱點
1．3 主要研究內容
第2章 磁流變拋光系統(tǒng)
2．1 計算機控制光學表面成形原理
2．1．1 計算機控制光學表面成形的理論基礎
2．1．2 計算機控制光學表面成形工藝對磁流變拋光系統(tǒng)的基本要求
2．2 KDMRF-1000F系統(tǒng)組成與性能分析
2．2．1 系統(tǒng)組成及主要性能
2．2．2 多軸運動系統(tǒng)性能分析
2．2．3 循環(huán)控制系統(tǒng)性能分析
2．2．4 磁流變液配制與性能分析
第3章 磁流變拋光區(qū)域流體動力學分析與計算
3．1 Bingham流體動力學基本方程
3．2 拋光區(qū)域磁流變液成核狀態(tài)分析
3．3 實驗驗證
第4章 磁流變拋光表面與亞表面質量實驗分析
4．1 磁流變拋光表面質量實驗分析
4．1．1 磁流變拋光表面質量影響因素分析
4．1．2 常見光學材料磁流變拋光表面粗糙度
4．2 磁流變拋光亞表面損傷實驗分析
4．2．1 磁流變消除磨削亞表面裂紋層實驗分析
4．2．2 磁流變消除傳統(tǒng)拋光亞表面損傷實驗分析
第5章 磁流變修形駐留時間高精度求解與實現
5．1 磁流變修形過程評價指標
5．2 磁流變修形駐留時間求解算法
5．2．1 線性方程組模型
5．2．2 加權非負廣義最小殘差算法
5．2．3 駐留時間求解仿真分析
5．3 基于運動系統(tǒng)動態(tài)性能的駐留時間實現方法
5．4 駐留時間求解與實現的聯合優(yōu)化
5．5 駐留時間求解與實現的實驗驗證
5．5．1 線性掃描加工路徑
5．5．2 極軸掃描加工路徑
5．6 基于熵增原理抑制磁流變修形中高頻誤差
5．6．1 基于熵增原理的局部隨機加工路徑
5．6．2 實驗驗證
……
第6章 高精度光學鏡面磁流變拋光試驗
第7章 離軸非球面加工技術簡介
第8章 離軸非球面修形理論
第9章 去除函數多參數建模與實驗分析
第10章 離軸非球面修形工藝
第11章 特征量參數測量與控制
第12章 加工工藝路線優(yōu)化及加工實例
參考文獻