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二氧化硅低維微:納米材料的制備及其光學性能

二氧化硅低維微:納米材料的制備及其光學性能

定 價:¥51.00

作 者: 呂航,楊喜寶
出版社: 冶金工業(yè)出版社
叢編項:
標 簽: 暫缺

ISBN: 9787502496166 出版時間: 2023-09-01 包裝: 平裝
開本: 16開 頁數(shù): 108 字數(shù):  

內(nèi)容簡介

  本書介紹了利用熱蒸發(fā)法制備二氧化硅低維微納米材料,此制備方法在簡單、有效、低耗的同時可以對材料的微結構進行調(diào)控。本書對制備方法和生長機制進行實驗分析,探索低維納米結構和性能的影響因素,對納米材料功能器件的設計具有重要指導性意義。本書還對于熱蒸發(fā)法制備二氧化硅微納米材料的結構及性能的影響進行分類介紹,深入分析納米材料的生長機理。本書可供從事材料學、物理學、化學等領域的科研人員閱讀,對納米材料生長機理的理解和結構性能影響因素的探索具有重要參考價值。

作者簡介

暫缺《二氧化硅低維微:納米材料的制備及其光學性能》作者簡介

圖書目錄

1 緒論
1.1 二氧化硅的結構、性質(zhì)及其應用
1.1.1 二氧化硅的結構與性質(zhì)
1.1.2 二氧化硅納米材料的應用
1.2 微/納米二氧化硅的制備
1.2.1 制備方法
1.2.2 生長機制
2 實驗設備與測試方法
2.1 實驗設備
2.1.1 高溫管式爐
2.1.2 直聯(lián)旋片式真空泵
2.1.3 超聲波清洗儀
2.1.4 水平電子天平秤
2.2 實驗材料
2.2.1 實驗材料及氣體
2.2.2 襯底預處理
2.3 實驗表征與測試
2.3.1 掃描電子顯微鏡
2.3.2 能譜
2.3.3 透射電子顯微鏡和選區(qū)電子衍射
2.3.4 X射線衍射譜
2.3.5 拉曼光譜
2.3.6 光致發(fā)光光譜
2.3.7 紫外-可見吸收光譜
3 復合結構二氧化硅低維材料的制備及性能
3.1 二氧化硅納米晶體鑲嵌非晶二氧化硅納米線
3.1.1 引言
3.1.2 實驗
3.1.3 結果和討論
3.1.4 小結
3.2 Si納米晶嵌入對二氧化硅納米網(wǎng)狀發(fā)光性能的影響
3.2.1 引言
3.2.2 實驗
3.2.3 結果和討論
3.2.4 小結
3.3 非晶態(tài)二氧化硅包覆的平行超細二氧化硅納米線
3.3.1 引言
3.3.2 實驗
3.3.3 結果和討論
3.3.4 小結
3.4 二氧化硅納米線/納米顆粒復合結構的制備及光致發(fā)光性能研究
3.4.1 引言
3.4.2 實驗
3.4.3 結果和討論
3.4.4 小結
4 熱蒸發(fā)法中實驗參數(shù)的影響
4.1 Pt催化劑對二氧化硅微/納米線材料和光學性質(zhì)的影響
4.1.1 引言
4.1.2 實驗
4.1.3 結果和討論

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