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中國電子信息工程科技發(fā)展研究 光學工程國內(nèi)外發(fā)展態(tài)勢研究

中國電子信息工程科技發(fā)展研究  光學工程國內(nèi)外發(fā)展態(tài)勢研究

定 價:¥98.00

作 者: 中國信息與電子工程科技發(fā)展戰(zhàn)略研究中心
出版社: 科學出版社
叢編項:
標 簽: 暫缺

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ISBN: 9787030788382 出版時間: 2024-10-01 包裝: 平裝
開本: 32開 頁數(shù): 字數(shù):  

內(nèi)容簡介

  本書圍繞基礎(chǔ)理論、關(guān)鍵技術(shù)、產(chǎn)業(yè)應用、科技政策等內(nèi)容,系統(tǒng)梳理了當前光學工程領(lǐng)域的發(fā)展狀況,總結(jié)了全球發(fā)展態(tài)勢以及我國發(fā)展現(xiàn)狀,展望了我國光學工程領(lǐng)域的未來發(fā)展方向及其在培育新質(zhì)生產(chǎn)力方面的潛在推動作用。在此基礎(chǔ)上,圍繞光學工程領(lǐng)域的理論和方法(包括光學理論及智能設(shè)計、矢量光場調(diào)控技術(shù)等)、典型應用(包括激光光源、光學神經(jīng)網(wǎng)絡及光學計算、光學成像、光學傳感及測量、激光通信、光學顯示、綠色能源光學、跨尺度/三維激光制造等),重點介紹了全球研究熱點和亮點,以及2022~2023年取得的重要進展及突破。最后梳理了光學工程領(lǐng)域的年度熱詞,介紹了其基本含義和應用水平。

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